钜某光电科技（上海）甲公司乙公司、丙公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案

钜某光电科技（上海）甲公司乙公司、丙公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案 ——阐明集成电路布图设计独创性及实质性相似认定标准的集成电路布图设计纠纷案 一审：上海市第一中级人民法院（2010）沪一中民五（知）初字第51号 二审：上海市高级人民法院（2014）沪高民三（知）终字第12号 案情摘要 原告钜某光电科技（上海）甲公司（以下简称丁公司）完成了集成电路布图设计ATT7021AU的设计，并获得布图设计登记证书。丁公司发现，戊公司（以下简称戊公司）未经其许可，复制其布图设计，己公司（以下简称己公司）为商业目的销售含有该布图设计的集成电路即RN8209G芯片和RN8209芯片。丁公司认为，戊公司己公司的行为侵犯其集成电路布图设计专有权，故诉至法院，请求判令两被告立即停止侵权、销毁侵权产品和相关宣传资料、赔礼道歉并赔偿经济损失及合理费用1500万元。 裁判结果 一审法院经审理判决丁公司停止侵权、赔偿损失及合理费用合计320万元。丁公司、戊公司均不服，提起上诉。二审法院经审理认为：戊公司在本庚公司的ATT7021AU集成电路布图设计中的“数字地轨与模拟地轨衔接的布图”和“独立升压器电路布图”是常规设计；戊公司辛公司的布图设计进行部分复制，既不是为个人目的，亦不是单纯为评价、分析、研究、教学等目的，而是为了研制新的集成电路以进行商业利用，壬公司的布图设计专有权，一审法院酌情判决戊公司癸公司包括合理支出在内的经济损失320万元，并无不当。故二审法院判决驳回上诉，维持原判。