富士电机株式会社诉国家知识产权局专利复审委员会专利申请驳回复审行政纠纷行政判决书案

富士电机株式会社诉国家知识产权局专利复审委员会专利申请驳回复审行政纠纷行政判决书案 /北京市第一中级人民法院 行政判决书 (2013)一中知行初字第945号 原告富士电机株式会社，住所地日本国川崎市川崎区田边新田1番1号。 法定代表人喜纳秀树，知识产权部部长。 委托代理人何某。 委托代理人李某。 被告中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会，住所地中华人民共和国北京市海淀区某地银谷大厦10－12层。 法定代表人张某，副主任。 委托代理人高某。 委托代理人王某。 原告富士电机株式会社因发明专利申请驳回复审行政纠纷一案，不服被告中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会（简称专利复审委员会）于2012年12月24日作出的第48702号复审请求审查决定（简称第48702号决定），于法定期限内向本院提起行政诉讼。本院于2013年4月16日受理后，依法组成合议庭，并于2013年7月16日公开开庭审理了本案。原告富士电机株式会社的委托代理人何某、李某，被告专利复审委员会的委托代理人高某、王某2庭参加了诉讼。本案现已审理终结。 第48702号决定系专利复审委员会针对富士电机株式会社就其申请的申请号为201010157692.2，名称为"等离子体控制方法及等离子体控制装置"的发明专利申请（简称本申请）所提复审请求而作出的。专利复审委员会在该决定中认为： 1、审查文本的认定 富士电机株式会社针对复审通知书修改了权利要求书，所作修改符合2002年修订的《中华人民共和国专利法实施细则》（简称2002年《专利法实施细则》）第六十条第一款以及2001年7月1日起施行的《中华人民共和国专利法》（简称2001年《专利法》）第三十三条的规定，因而该复审决定依据的文本是富士电机株式会社于2012年11月5日提交的权利要求第1-6项；分案申请递交日提交的说明书、说明书附图、说明书摘要及摘要附图。 2、关于2001年《专利法》第二十六条第三款 本申请的说明书未对发明作出清楚、完整的说明，致使本领域技术人员不能实现该发明，具体理由如下：本申请要解决的技术问题在于根据成膜条件的变化控制成膜均匀性，其解决方案是通过"自动控制装置"对峰间电压绝对值差的控制来实现，而"自控控制装置"在说明书中未充分公开，导致本领域技术人员根据说明书的教导无法实现其发明目的。在说明书的实施例1、2中仅记载了"峰间电压Vpp的分布与高频电极板210上的电位分布有关，与等离子体分布有关","通过设置以进行高频电极板210上的峰间电压Vpp的分布的监控，使各检测点的峰间电压Vpp都基本相同的方式选择成膜条件的控制工序，能够得到良好的膜厚均匀性"，"安装了根据各检测点的峰间电压Vpp的检测结果将成膜压力自动控制到峰间电压Vpp的绝对值的差最小（峰间电压Vpp达到相同程度）的机构（自动控制装置），具体地说，因为实施例1的结果显示了下部的峰间电压Vpp和其他的三点有很大差异，所以使用了使上部的峰间电压Vpp和下部的峰间电压Vpp的差最小的控制方法"。可见，上述说明书记载的内容仅指出了各检测点的峰间电压Vpp的绝对值的差与成膜压力以及成膜条件之间的关系，仅仅指出要使用一种"自动控制装置"来达到根据检测到的峰间电压自动控制真空容器内的压力的目的，然而，这种可以通过监控峰间电压并与压力控制机构连动的自动控制装置具体是怎么实现的，在原说明书中仍没有记载。说明书中并没有给出所述自动控制装置的原理和具体结构，也就是说，说明书中只给出了一种设想，而未给出使本领域技术人员能够实施的技术手段，本领域技术人员根据说明书现有记载的内容无法得知如何对电极板上进行设置或者采用何种机构对电极板进行供电可以使电极板上各个点的峰间电压Vpp的绝对值的差最小、并将成膜压力自动控制在该范围内。因此，本申请说明书没有对发明充分公开，不符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定。专利复审委员会作出第48702号决定：维持中华人民共和国国家知识产权局（简称国家知识产权局）于2011年6月27日对本申请作出的驳回决定。 原告富士电机株式会社诉称：一、专利复审委员会对本申请技术方案所要解决的技术问题理解有误，片面认为本申请是为了根据成膜条件的变化控制成膜的均匀性，即本申请说明书所述的第一个目的，忽略了其他要解决的技术问题。本申请旨在解决四个方面的技术问题，其中"提供一种等离子体控制方法，使得在使电极增加到1m×1m程度的情况下或者使电源频率更高等的情况下，也使膜厚的面内均匀性不明显恶化"，完全不需要通过"自动控制装置"来实现。如果说明书所公开的技术方案能够解决其中任何一个技术问题，都应该认为是达到了发明的目的并取得了技术效果。根据与权利要求1－6对应的实施例1，所述技术领域的技术人员能够依据说明书记载的内容实现本申请，本申请符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定。二、"自动控制装置"是本申请说明书实施例2中记载的结构，在与权利要求1－6对应的实施例1中不存在任何有关"自动控制装置"的记载，也不需要通过"自动控制装置"来实施。因此，"自动控制装置"对于实施例1记载的发明而言，并不是必不可少的技术特征。即使对于实施例2的技术方案，本领域技术人员也能够根据说明书所充分公开的内容，根据所要控制的参数以及说明书所公开的参数之间的关系，选择常规的控制手段加以实施。原告认为本申请说明书符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定，请求法院撤销第48702号决定。 被告专利复审委员会坚持其在第48702号决定中的认定意见，认为该决定认定事实清楚，适用法律正确，审理程序合法，审查结论正确，请求法院维持该决定。 本院经审理查明： 本申请系申请号为201010157692.2，名称为"等离子体控制方法及等离子体控制装置"的发明专利申请，其为200510124186.2专利申请的分案申请，申请日为2005年11月21日，优先权日为2004年11月22日，公开日为2010年9月15日，申请人为富士电机株式会社。 国家知识产权局在富士电机株式会社于分案申请递交日提交的文件的基础上，经实质审查于2011年6月27日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：说明书指出要使用一种机构和/或一种控制方法使成膜压力自动控制在峰间电压Vpp的差值最小的范围内，但是，说明书并没有给出所述机构的具体结构，也没有给出所述控制方法的具体实现步骤，本领域技术人员无法根据说明书充分公开的内容实现成膜压力自动控制在峰间电压Vpp的差值最小的范围内。也就是说，说明书给出的技术手段是含糊不清的，所属领域技术人员根据说明书的记载，无法实现该发明，其不符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定。 富士电机株式会社对上述驳回决定不服,于2011年10月12日向专利复审委员会提出了复审请求，同时修改了权利要求书，将权利要求的主题名称修改为"成膜方法"，并对技术特征进行了相应修改，但未对驳回决定所指出的缺陷，即自动控制装置的原理、组成和结构以及控制方法的具体实现步骤是否在说明书中充分公开进行陈某。 专利复审委员会于2011年11月18日受理了该复审请求，并将其转送至国家知识产权局原审查部门进行前置审查。原审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。 专利复审委员会成立合议组对本案进行审理，并于2012年9月21日向富士电机株式会社发出复审通知书，指出：本申请说明书记载的内容仅指出了各检测点的峰间电压Vpp的绝对值的差与成膜压力以及成膜条件之间的关系，即仅仅指出要使用一种"自动控制装置"来达到根据检测到的峰间电压自动控制真空容器内的压力的目的，然而，这种可以通过监控峰间电压并与压力控制机构连动的自动控制装置具体是怎么实现的，在原说明书中仍没有记载。说明书中并没有给出所述自动控制装置的原理和具体结构，也就是说，说明书中只给出了一种设想，而未给出使本领域技术人员能够实施的技术手段，本领域技术人员根据说明书现有记载的内容无法得知如何对电极板上进行设置或者采用何种机构对电极板进行供电可以使电极板上各个点的峰间电压Vpp的绝对值的差最小、并将成膜压力自动控制在该范围内。因此，本申请说明书没有对发明充分公开，不符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定。 富士电机株式会社于2012年11月5日提交了意见陈某书和权利要求书全文修改替换页，删除了有关"自动控制装置"的权利要求4和5，并相应地将权利要求6-8的编号和引用关系进行了修改；以及将权利要求1的"峰间电压的差的绝对值"修改为"峰间电压的绝对值的差"。富士电机株式会社认为：通过删除权利要求4、5，能够克服公开不充分的问题。 专利复审委员会于2012年12月24日作出第48702号决定。 原告在诉讼中向本院提交了如下证据材料：200510124186.2号专利申请公开说明书；201010157692.2专利申请公开说明书；第一次审查意见通知书；驳回决定；复审请求时提交的权利要求书修改文本；复审通知书；答复复审通知书时提交的权利要求书修改文本；日本实开平5－11438公开实用新型公报及翻译；《Understanding the Basics of Process Pressure Control》及翻译；《Automated gate valve operation for pressure control》及翻译；《热工过程自动控制》封面、版权信息页、目录页、第2－7、105－122页复印件。 另查： 本申请说明书中未对其所述"自动控制装置"的原理和具体结构进行公开。 本申请说明书的实施例1、2中记载了"峰间电压Vpp的分布与高频电极板210上的电位分布有关，与等离子体分布有关","通过设置以进行高频电极板210上的峰间电压Vpp的分布的监控，使各检测点的峰间电压Vpp都基本相同的方式选择成膜条件的控制工序，能够得到良好的膜厚均匀性"，"安装了根据各检测点的峰间电压Vpp的检测结果将成膜压力自动控制到峰间电压Vpp的绝对值的差最小（峰间电压Vpp达到相同程度）的机构（自动控制装置），具体地说，因为实施例1的结果显示了下部的峰间电压Vpp和其他的三点有很大差异，所以使用了使上部的峰间电压Vpp和下部的峰间电压Vpp的差最小的控制方法"。 本申请说明书的实施例1的技术方案仅涉及到电极的监测，未公开如何进行控制和调节的技术手段。 上述事实有第48702号决定及其所依据的审查文本、富士电机株式会社在诉讼中向本院提交的证据材料、当事人陈某等在案佐证。 本院认为：基于当事人的诉辩主张，本案的争议焦点在于：本专利是否符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定。 2008年12月27日修改的《中华人民共和国专利法》（简称2009年《专利法》）已于2009年10月1日起施行，因此本案审理涉及2001年《专利法》与2009年《专利法》之间的选择适用问题。《中华人民共和国立法法》第八十四条规定，法律、行政法规、地方性法规、自治条例和单行条例、规章不溯及既往，但为了更好地保护公民、法人和其他组织的权利和利益而作的特别规定除外。国家知识产权局据此制定了《施行修改后的专利法的过渡办法》，并于2009年10月1日起施行。对于专利权是否有效的审查，根据该过渡办法，申请日在2009年10月1日前的专利申请以及根据该专利申请授予的专利权适用2001年专利法的规定；申请日在2009年10月1日以后（含该日）的专利申请以及根据该专利申请授予的专利权适用2009年专利法的规定。本案属于专利授权行政纠纷，本申请的申请日在2009年10月1日前，因此依据《中华人民共和国立法法》第八十四条之规定，并参照上述过渡办法的相关规定，本案应适用2001年《专利法》进行审理。 根据2001年《专利法》第二十六条第三款的规定，说明书应当对发明或者实用新型作出清楚、完整的说明，以所属技术领域的技术人员能够实现为准。 本案中，本申请要解决的技术问题在于根据成膜条件的变化控制成膜均匀性，其解决方案是通过"自动控制装置"对峰间电压绝对值差的控制来实现，而"自动控制装置"在说明书中未充分公开，导致本领域技术人员根据说明书的教导无法实现其发明目的。在说明书的实施例1、2中仅记载了"峰间电压Vpp的分布与高频电极板210上的电位分布有关，与等离子体分布有关","通过设置以进行高频电极板210上的峰间电压Vpp的分布的监控，使各检测点的峰间电压Vpp都基本相同的方式选择成膜条件的控制工序，能够得到良好的膜厚均匀性"，"安装了根据各检测点的峰间电压Vpp的检测结果将成膜压力自动控制到峰间电压Vpp的绝对值的差最小（峰间电压Vpp达到相同程度）的机构（自动控制装置），具体地说，因为实施例1的结果显示了下部的峰间电压Vpp和其他的三点有很大差异，所以使用了使上部的峰间电压Vpp和下部的峰间电压Vpp的差最小的控制方法"。可见，上述说明书记载的内容仅指出了各检测点的峰间电压Vpp的绝对值的差与成膜压力以及成膜条件之间的关系，仅仅指出要使用一种"自动控制装置"来达到根据检测到的峰间电压自动控制真空容器内的压力的目的，然而，这种可以通过监控峰间电压并与压力控制机构连动的自动控制装置具体是怎么实现的，在原说明书中仍没有记载。说明书中并没有给出所述自动控制装置的原理和具体结构，也就是说，说明书中只给出了一种设想，而未给出使本领域技术人员能够实施的技术手段，本领域技术人员根据说明书现有记载的内容无法得知如何对电极板上进行设置或者采用何种机构对电极板进行供电可以使电极板上各个点的峰间电压Vpp的绝对值的差最小、并将成膜压力自动控制在该范围内。因此，专利复审委员会认定本申请说明书没有对发明充分公开，不符合2001年《专利法》第二十六条第三款的规定并无不当。 原告所称本申请所要解决的技术问题"提供一种等离子体控制方法，使得在使电极增加到1m×1m程度的情况下或者使电源频率更高等的情况下，也使膜厚的面内均匀性不明显恶化"，同样是在根据成膜条件的变化控制成膜均匀性，电极板的尺寸和电源频率等都属于成膜条件，其属于"成膜条件的变化控制成膜的均匀性"的更具体更细节的技术问题。实施例1的技术方案仅涉及到电极的监测，如果仅有监测而无控制和调节，则成膜均匀性不会变化。因此，"自动控制装置"仍为解决本申请技术问题的必要技术手段。本申请没有给出所述"自动控制装置"的具体结构，也没有给出进行控制和调节的具体实现步骤，本领域技术人员根据本申请所记载的内容无法实现其发明目的。原告认为本申请符合2001年《专利法》第二十六条第三款规定的相关诉讼理由缺乏根据，其主张本院不予支持。 综上，被告作出的第48702号决定认定事实清楚，适用法律正确，程序合法，应予维持。依照《中华人民共和国行政诉讼法》第五十四条第（一）项之规定，本院判决如下： 维持中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会作出的第48702号复审请求审查决定。 案件受理费人民币一百元，由原告富士电机株式会社负担（已交纳）。 如不服本判决，原告富士电机株式会社可在本判决书送达之日起三十日内，被告中华人民共和国国家知识产权局专利复审委员会可在本判决书送达之日起十五日内，向本院递交上诉状，并按对方当事人人数提交副本，交纳上诉案件受理费人民币一百元，上诉于中华人民共和国北京市高级人民法院。 审　判　长　　张晰昕 代理审判员　　毛某 人民陪审员　　毛艾越 二○一三年九月十七日 书　记　员　　任　燕 本案法律依据 中华人民共和国专利法(2008修正) 施行修改后的专利法的过渡办法 中华人民共和国立法法 第84条 中华人民共和国专利法(2000修正) 第26条3款 中华人民共和国专利法(2000修正) 第33条 中华人民共和国专利法实施细则(2001) 第60条1款 中华人民共和国行政诉讼法 第54条1款1项