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甲公司、泉芯电子技术（深圳）乙公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷民事二审民事判决书
广东省高级人民法院
民事判决书
(2019)粤知民终1号
上诉人(原审被告)：甲公司。住所地：江苏省南京市。
法定代表人：秦某，该公司执行董事。
委托诉讼代理人：张某，某律师事务所律师。
委托诉讼代理人：王某，某律师事务所律师。
被上诉人(原审原告)：泉芯电子技术(深圳)乙公司。住所地：广东省深圳市。
法定代表人：CHAOGANGHUANG(黄朝刚)，该公司董事长。
委托诉讼代理人：吴某。
原审被告：丙公司。住所地：广东省深圳市。
法定代表人：陈某，该公司总经理。
委托诉讼代理人：吴某2，该公司员工。
丁公司(以下简称丁公司)因与被上诉人泉芯电子技术(深圳)乙公司(以下简称庚公司)、戊公司(以下简称戊公司)侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案，不服广东省深圳市中级人法院(2012)深中法知民初字第398号民事判决，向本院提起上诉。本院依法组成合议庭进行了审理。本案现已审理终结。
丁公司上诉请求：1.撤销广东省深圳市中级人民法院(2012)深中法知民初字第398号民事判决，己公司的全部诉求请求。事实和理由：1.庚公司备案登记的布图设计图样纸件和电子版与备案的芯片样品不一致，不符合登记要求，不能获得专有权保护,即便可以获得专有权保护,在登记的样品与图样不一致时，应当以图样的纸件为准确定专有权范围，而本案中，由于该备案登记的图样纸件模糊不清，无法完成任何比对，辛公司请求保护的9个区域是否是该纸件图样上的9个区域，壬公司不能证明其对在本案中请求保护的9个区域享有专有权；2.癸公司请求保护的9个区域在其备案的布图设计纸件中对应的位置，由于纸件不清晰，所以也无法完成侵权比对，即便可以比对，将纸件中对应位置的布图设计与被诉侵权产品中对应部分的布图设计进行比对，二者的图案形状以及排列方式明显不同，既不相同也不相近似，因此并未构成侵权；3.子公司主张保护的9个区域已经备案登记，但9个区域不符合集成电路保护条例对于集成电路的定义以及独创性要求，不能受到集成电路布图设计的专有权保护。丑公司声称是陷阱区域的D区域，实际上是一种称为Dummy设计的常规设计；4.在做侵权比对鉴定中,庚公司在提交其请求保护的9个区域的设计图样时，分别只提交该9个区域的三层设计图样，并没有提交完整的12层设计，鉴定机构也仅就该9个区域与被诉设计对应区域的3层设计进行侵权比对，并没有对其他关键层信息进行比对，比对对象不完整，无法得出该9个区域是否相同的结论。寅公司的侵权指控不能成立。即便可以使用三层设计进行侵权比对,丁公司卯公司B区域的设计不同，丁公司B区域采用的是一种常规设计，因此并不构成侵权；5.辰公司独立创作完成的，不构成侵权；6.在被诉侵权产品不构成侵权的情况下，巳公司承担300万赔偿责任没有事实依据。即便构成侵权，午公司并未举证证明其实际损失，未公司已经提交证据证明实际获利仅为60多万，申公司的实际侵权获利确定赔偿额，一审法院采用酌定方式确定赔偿数额缺少法律依据。
庚公司辩称，一审法院认定事实清楚，适用法律正确，请求二审法院驳回上诉，维持原判。
庚公司向一审法院起诉请求：1.丁公司、戊公司酉公司BS．09500630．3号QX2304集成电路布图设计专有权的行为，并销毁所有侵权产品；二、丁公司、戊公司戌公司经济损失及为制止侵权行为而支付的合理费用共计人民币3000000元；三、丁公司、戊公司承担本案的诉讼费；四、丁公司对上述债务承担连带责任。
一审法院查明：
一、涉案集成电路布图设计备案登记的情况
2010年6月24日，国家知识产权局向庚公司颁发第3389号《集成电路布图设计登记证书》，该布图设计登记证书记载，亥公司，布图设计名称为QX2304，布图设计登记号为BS.09500630.3，布图设计申请日为2009年8月22日，布图设计颁证日为2010年6月24日，布图设计创作完成日为2009年1月15日，布图设计首次投入商业利用日为2009年6月10日。
在案件审理过程中，庚公司向一审法院申请调取其在国家知识产权局备案的电子版布图设计及芯片样品。为了查明案件事实，一审法院向某知识产权局调取庚公司在国家知识产权局备案的布图设计芯片样品，并用优盘拷贝了备案的电子版布图设计。经查，庚公司在国家知识产权局备案的BS.09500630.3号芯片的型号有两种，分别为QX2304L28E、QX2304L33E，一审法院分别调取了上述型号的芯片各1个。庚公司称，其上述在国家知识产权局备案的QX2304L28E、QX2304L33E型芯片的布图设计是相同的，二者只是芯片的电压不同，QX2304L28E适用的电压为2.8伏，QX2304L33E适用的电压为3.3伏。丁公司甲23公司的该主张，称，在同一个备案登记的布图设计基础上，不可能有两种芯片。
二、丁公司涉案集成电路布图设计备案登记的情况
2011年10月28日，国家知识产权局向丁公司颁发第4991号《集成电路布图设计登记证书》，该布图设计登记证书记载，乙24公司，布图设计名称为ME2180，布图设计登记号为BS.11500561.7，布图设计申请日为2011年6月10日，布图设计颁证日为2011年10月28日，布图设计创作完成日为2010年10月31日。丁公司还向一审法院提交了其ME2180布图设计的版图、登记申请结构、技术、功能简要说明。
在案件审理过程中，丁公司向一审法院申请调取丁公司在国家知识产权局备案的电子版布图设计及芯片样品。为了查明案件事实，一审法院向某知识产权局调取丁公司在国家知识产权局备案的布图设计芯片样品。
三、庚公司丙25公司、戊公司侵权的表现形式及购买被诉侵权产品的过程
庚公司丁26公司以销售的商业利用方式侵犯其集成电路布图设计专有权，丙25公司以复制、销售的商业利用方式侵犯其集成电路布图设计专有权，为证明上述事实，庚公司提交了深圳市南山公证处出具的(2012)深南证字第3407号公证书，该公证书载明如下事实：
2012年3月9日上午十时二十分，庚公司的委托代理人倪某与深圳市南山公证处公证员史历芳和公证人员张逸宏来到深圳市福田区华强北上步工业区201栋4A25-2室挂有“丙公司”门牌字样的场所，庚公司的委托代戊27公司购买了两圆盘ME2180A28PG芯片，总共两千个，单价为0.4元，并当场取得盖有“丙公司财务专用章”字样的收据一张，收据号码为xxx。上述公证购买的两圆盘ME2180A28PG芯片的封面标有“甲公司”字样，TYPE(型号)：ME2180A28PG，DATE(生产日期)：2011/07/17。戊公司认可曾向倪某销售过两盘芯片。丁公司认可从被己28公司生产的芯片产品。一审当庭拆封公证购买的两袋被诉侵权产品，其中一个包装袋所封存的芯片圆盘完好无损，而另一个包装袋所封存的芯片圆盘已拆封。从公证书所附照片来看，先有两袋封存完好的芯片圆盘照片；翻页后的照片显示两盘芯片圆盘其中一盘已拆封；接着翻页的照片显示有单个芯片实物的照片。一审法院将未拆封的一盘芯片圆盘通过封条进行查封，并作为本案被控侵权布图设计进行对比的对象。
丁公司戊公司均不认可上庚29公司在国家知识产权局备案的布图设计相同。同时，丁公司还抗辩称，其亦在国家知识产权局进行了布图设计登记，被控侵权的布图设计使用的是其享有专有权的布图设计，因此，丁公司辛30公司的布图设计专有权。
四、壬31公司涉案布图设计进行司法鉴定对比及相关司法鉴定对比的情况
(一)癸32公司、丁公司备案芯片的布图设计进行对比，子33公司丁公司备案芯片的布图设计进行对比的司法鉴定情况
为了查明案件事实，庚公司、丁公司向法院提出司法鉴定申请，要求对下列事项进行司法鉴定：1.被诉侵权产丑34公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图设计是否一致？2.被诉侵权产寅35公司在国家知识产权局备案的ME2180样品布图设计是否一致？3.庚公司在国家知识产权局备案的卯36公司在国家知识产权局备案的ME2180样品布图设计是否相同？
辰37公司对上述事项进行司法鉴定，基于法院的司法鉴定委托，巳38公司分别做出C28BVS.1128-28、C33BVS.1128-28、1114-3QVS.C28B、1114-3QVS.C33B、1114-3QVS.1128-28五份相似度验证报告。在上述相似度验证报告中，巳38公司午39公司在国家知识产权局备案的型号为QX2304L28E、QX2304L33E的芯片，分别编号为C28B、C33B；未40公司在国家知识产权局备案的ME2180芯片样品编号为1114-3Q；将被诉侵权产品(芯片)编号为1128-28。
上述C28BVS.1128-28相似度验证报告的结论为：芯片1128-28(被诉侵权产品)和芯片C28B(庚公司备案的芯片之一)版图相似度为62.72%。
上述C33BVS.1128-28相似度验证报告的结论为：芯片1128-28(被诉侵权产品)和芯片C33B(庚公司备案的芯片之二)版图相似度为68.51%。
上述1114-3QVS.C28B相似度验证报告的结论为：芯片C28B(庚公司备案的芯片之一)和芯片1114-3Q(丁公司备案的芯片)版图相似度为68.01%。
上述1114-3QVS.C33B相似度验证报告的结论为：芯片C33B(庚公司备案的芯片之二)和芯片1114-3Q(丁公司备案的芯片)版图相似度为63.02%。
上述1114-3QVS.1128-28相似度验证报告的结论为：芯片1128-28(被诉侵权产品)和芯片1114-3Q(丁公司备案的芯片)版图相似度为91.94%。
庚公司巳38公司预支付司法鉴定费5万元。丁公司巳38公司预支付司法鉴定费5万元
(二)申41公司选定的部分布图设计与被诉侵权产品相应布图设计是否相同进行对比，以及该部分布图设计是否具有独创性进行司法鉴定的情况
在案件审理的过程中，庚公司申请对下列事项做补充鉴定：1.庚公司所称其创新部分的布图设计是否与其在本案中主张享有专有权的布图设计相对应部分相同？2.庚公司酉42公司被诉侵权产品的相应布图设计是否相同或实质性相似？3.如上述第1项存在相同或实质性相似，戌43公司对该相同或实质性相似部分的布图设计是否具有独创性？4.庚公司丁公司布图设计整体概貌图是否相同或实质性相似？5.如上述第4项存在相同或实质性相似，戌43公司整体布图设计概貌是否具有独创性。亥44公司放弃对上述第4、5申请事项的鉴定。
庚公司为司法鉴定的需要提交了《泉芯QX2304独创性说明及其与微盟ME2108的版图对比》，甲45公司固定其所称的创新部分的布图设计以及独创性说明。在上述说明中，庚公司称，其选定的D布图设计区域包含2个非门，一个schmitt触发器和一个下拉开关管，此区域不连通，没有任何功能，即该布图实现的功能并不是最初设计的功能，因此该布图的目的是用于识别抄袭。丁公司提交了抗辩证据材料，乙46公司所固定的布图设计不具有独创性。
双方共同选定北京紫图知识产权司法鉴定中心对上述事项进行司法鉴定。北京紫图知识产权司法鉴定中心接受一审法院的委托。基于查明案件事实的需要，2015年3月27日，一审法院组织案件双方在北京紫图知识产权司法鉴定中心召开技术听证会。2015年10月26日，北京紫图知识产权司法鉴定中心做出北京紫图[2014]知鉴字第122号鉴定意见，结论如下：
1.庚公司所称其创新部分的布图设计是否与其在本案中主张享有专有权的布图设计相对应部分相同？
庚公司所称其创新部分的布图设计在其2015年6月8日提供的《泉芯QX2304独创性说明及其与微盟ME2108的版图对比》(简称“独创性说明”)中明确：“本文将QX2304的创新电路模块划分为8个模块，其中A、B、C、G、H、M这6个电路模块是新增加的模块，E、I这两个电路模块是在传统电路上改进的模块，而D区域是用来识别抄袭的‘陷阱电路’”。
庚公司在本案中主张享有专有权的布图设计一是依据“芯愿景”提供的国家知识产权局备案的QX2304芯片(登记号：BS09500630.3)的剖片图像(简称“丙47公司芯片剖片图像”)，该芯片为两个样品芯片分别为样品一编号为：C28B(QX2304L28E)和样品二编号为：C33B(QX2304L33E)，两样品剖片图像M2层左下角均显示为QX2305；另一个是“芯愿景”丁48公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图(bmp格式图片，该图片像素有限，放大后有失真)(简称“丙47公司电子版图片”)。
1.1A区域：同步功率管PMOS；B区域：与同步管PMOS并联的二极管；C区域：电感电流过零比较电路。A区域包含一个沟道总宽度为36600um，沟道长度为1um的曲栅状PMOS管；B区域包含5个长度为101.15um，宽度为4.1um，面积为414.715um2的二极管；C区域包含了一个差动比较器，一个与门和两个上拉开关管；A、B、C区域是因为采用内置二极管所新增加的布图设计。
对比分析：“独创性说明”中的A、B、C区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
1.2Ｄ区域：“陷阱电路”。包含了2个非门，一个schmitt触发器和一个下拉开关管。此部分版图是用于识别抄袭，戊49公司接触性的实质证据，此区域不连通，没有任何功能。
对比分析：“独创性说明”中的Ｄ区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
１.3E区域：PMOS同步功率管驱动与NMOS开关功能管驱动。包含了2个2输入与门，1个2输入或门，4个非门，两个MOS驱动缓冲器。
对比分析：“独创性说明”中的E区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
1.4G区域：软启动电路。包含了1个差动比较器，1个2输入或门，1个非门。
对比分析：“独创性说明”中的G区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，而“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B中缺少相对应的部分，因此不相同。
1.5H区域：OSC振荡电路。包含了4个非门、2个反向器、2个schmitt触发器、1个3输入与非门和一个下拉开关管。
对比分析：“独创性说明”中的H区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分中个别器件数量有所不同，因此不相同。
1.6I区域：基准产生电路。包含了9个PNP三极管，一个非门。
对比分析：“独创性说明”中的I区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
1.7M区域：过零检测latch电路。包含了一个带复位端的D触发器，6个非门，1个2输入或门，一个下拉开关管，一个PMOS恒流源。
对比分析：“独创性说明”中的M区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
2.庚公司酉42公司被诉侵权产品的相应布图设计是否相同或实质性相似？
被诉侵权产品：庚公司公证购买的未拆封被诉侵权产品样品1128_28以下简称：(样品28)；丁公司在国家知识产权局登记的集成电路布图设计(登记号：BS11500561.7)的芯片样品1114_3Q以下简称：(样品3Q)。“芯愿景”对两个芯片样品进行了剖析，并提供了剖片图像(以下称为“己50公司芯片剖片图像”)，因为(样品28)和(样品3Q)在所对比的区域(指的是A、B、C、D、E、G、H、I、M九个区域)的集成电路布图设计相同，下面只需以(样品28)进行对比判断。
2.1A区域：同步功率管PMOS；B区域：与同步管PMOS并联的二极管；C区域：电感电流过零比较电路。A区域包含一个沟道总宽度为36600um，沟道长度为1um的曲栅状PMOS管；B区域包含5个长度为101.15um，宽度为4.1um，面积为414.715um2的二极管；C区域包含了一个差动比较器，一个与门和两个上拉开关管；A、B、C区域是因为采用内置二极管所新增加的布图设计。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中A区域相对应的区域包括一个场效应管，经初步测量其沟道总宽度约35344um，沟道长度为0.87um,该管被划分为94组，每组包含4串曲栅状管。考虑到实际测量的误差，认为(样品28)与A区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。经初步测量(样品28)与“独创性说明”中B区域相对应的区域包括5个长度为101.8um，宽度为4.2um，面积为427.56um2的二极管。考虑到实际测量的误差，认为(样品28)与B区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。
(样品28)与“独创性说明”中C区域相对应的区域的整体布图的布局相同，只是存在孔的数量有所不同，布图形状的个别部分有些差异。由于孔的数量有所不同，布图形状的个别部分有些差异不足以构成布图设计的实质性差异，因此认为(样品28)与C区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。综上所述，(样品28)与“独创性说明”认定的A、B、C三个区域相对应区域，两者的的布图设计为实质性相似。
2.2Ｄ区域：“陷阱电路”。包含了2个非门，一个schmitt触发器和一个下拉开关管。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中Ｄ区域相对应的区域的整体布局相同，丁公司提供的证据《对泉芯独创性说明的回复》(简称“丁公司对说明的回复”)Ｄ区域中标示为７和８的两处布图细节的位置有差别，经对比分析判断认为实质只是引出孔的位置有细微差别，孔的数量有所不同。上述不同点不足以构成布图设计的实质性差异，因此认为(样品28)与Ｄ区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。
2.3E区域：PMOS同步功率管驱动与NMOS开关功能管驱动。包含了2个2输入与门，1个2输入或门，4个非门，两个MOS驱动缓冲器。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中E区域相对应的区域的整体布局相同，孔的数量有所不同。上述不同点不足以构成布图设计的实质性差异，因此认为(样品28)与E区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。
2.4G区域：软启动电路。包含了1个差动比较器，1个2输入或门，1个非门。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中G区域相对应的区域不同部分约20%(主要是体现在金属1层和金属2层)，对应区域的器件个数相同、布局基本相同。根据现有证据无法识别20%的不同区域的版图布局的器件，所以无法判断二者是否相同。
2.5H区域：OSC振荡电路。包含了4个非门、2个反向器、2个schmitt触发器、1个3输入与非门和一个下拉开关管。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中H区域相对应的区域的整体布局相同，仅是孔的数量有所不同。由于孔的数量有所不同不足以构成布图设计的实质性差异，因此认为(样品28)与H区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。
2.6I区域：基准产生电路。包含了9个PNP三极管，一个非门。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中I区域相对应的区域的整体布局相同，孔的数量有所不同。上述不同点不足以构成布图设计的实质性差异，因此认为(样品28)与I区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。
2.7M区域：过零检测latch电路。包含了一个带复位端的D触发器，6个非门，1个2输入或门，一个下拉开关管，一个PMOS恒流源。
对比分析：(样品28)与“独创性说明”中M区域相对应的区域的整体布局相同，“丁公司对说明的回复”M区域中的4、6、8、9处相对位置不同，实质只是引出孔的位置细微差别，孔的数量有所不同。上述不同点不足以构成布图设计的实质性差异，因此认为(样品28)与M区域对应的区域，两者的布图设计为实质性相似。
3.如上述第1项存在相同或实质性相似，戌43公司对该相同或实质性相似部分的布图设计是否具有独创性？
3.1A区域：同步功率管PMOS；B区域：与同步管PMOS并联的二极管；C区域：电感电流过零比较电路。“独创性说明”中的A、B、C区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司的芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
对比分析：丁公司提供的证据“丁公司对说明的回复”：第一、蛇形功率管画法在(模拟电路版图的艺术)第二版第434页有同样的画法。因为该书出版的时间不明，因此不能作为蛇形功率管画法的公知证据。第二、庚51公司的PAM2307的版图的两张局部照片，其纸质图不清晰看不出是否为蛇形，而且没说明芯片生产时间。第三、辛52公司TPS61220芯片内部电路框图。因为内部电路框图不是集成电路布图设计，因此说明不了二极管在芯片的集成电路布图设计中是在芯片内布置的。第四、庚51公司版图LT3429纸质图不清晰无法判断。壬53公司的布图设计不是其自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以A、B、C区域布图设计具有独创性。
3.2Ｄ区域：“陷阱电路”。“独创性说明”中的Ｄ区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
对比分析：关于此区域，庚公司称，此部分版图是用于识别抄袭，戊49公司接触性的实质证据，此区域不连通，没有任何功能。之所以称这部分电路是“陷阱电路”是因为此电路最初设计的目的是实现低压启动的功能，当版图完成，即将流片时，由于时间紧迫来不及将版图重行布局，考虑到zeroIcomp电路需要对时钟CLK进行TOFF延时，而临时借用此电路的结构(见此模块与zeroIcomp电路连接关系)。换句话说，此电路实现的功能并不是最初设计的功能。
丁公司提供的证据“丁公司对说明的回复”：庚51公司的PAM2307的版图，其纸质图不清晰；提供癸54公司D区域的版图进行一一对比分析。壬53公司的布图设计不是其自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以D区域布图设计具有独创性。
3.3E区域：PMOS同步功率管驱动与NMOS开关功能管驱动。“独创性说明”中的E区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
对比分析：丁公司提供的证据“丁公司对说明的回复”：庚51公司的PAM2307的版图，其纸质图不清晰；提供子55公司E区域的版图进行一一对比分析。壬53公司的布图设计不是其自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以E区域布图设计具有独创性。
3.4G区域：软启动电路。“独创性说明”中的G区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同。
对比分析：丁公司提供的证据“丁公司对说明的回复”：庚51公司的PAM2307的版图，其纸质图不清晰；提供子55公司G区域的版图进行一一对比分析。壬53公司的布图设计不是其自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以G区域布图设计具有独创性。
3.5H区域：OSC振荡电路。“独创性说明”中的H区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同。
对比分析：丁公司提供的证据“丁公司对说明的回复”：庚51公司的LT3429的版图，其纸质图不清晰；提丑56公司H区域的版图进行一一对比分析。壬53公司寅57公司自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以H区域布图设计具有独创性。
3.6I区域：基准产生电路。“独创性说明”中的I区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
对比分析：壬53公司的布图设计不是其自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以I区域布图设计具有独创性。
3.7M区域：过零检测latch电路。“独创性说明”中的M区域与“丙47公司电子版图片”相对应部分相同，与“丙47公司芯片剖片图像”C28B和C33B相对应部分相同。
对比分析：丁公司提供的证据“丁公司对说明的回复”：庚51公司的PAM2307的版图，其纸质图不清晰；提供子55公司M区域的版图进行一一对比分析。壬53公司的布图设计不是其自己智力劳动成果，也不能说明在布图设计创作者和集成电路制造者中是公认的常规设计。所以M区域布图设计具有独创性。
综上，庚公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、G、H、I、M区域(根据“芯愿景”丁48公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图)，卯58公司《集成电路布图设计登记证书》上所记载的完成日期2009年1月15日为时间界限，所述区域在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计，依据《集成电路布图设计保护条例》第四条规定认定其具有独创性；庚公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、I、M区域(根据“芯愿景”提供的国家知识产权局备案的芯片QX2304的剖片图像，图像M2层左下角显示为QX2305)，卯58公司《集成电路布图设计登记证书》上所记载的完成日期2009年1月15日为时间界限，所述区域在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计，依据《集成电路布图设计保护条例》第四条规定认定其具有独创性。
结论：依据现有证据，1.辰59公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、I、M区域与其在本案中主张享有专有权的布图设计(“芯愿景”提供的国家知识产权局备案的芯片QX2304的剖片图像，图像M2层左下角显示为QX2305)相对应部分相同；1.巳60公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、G、H、I、M区域与其在本案中主张享有专有权的布图设计(“芯愿景”丁48公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图)相对应部分相同。2.庚公司所称其创新部分的布图设计A、B、C、D、E、H、I、午61公司被诉侵权产品的相应区域的布图设计实质性相似，G区域无法判断。3.辰59公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、G、H、I、M区域(根据“芯愿景”丁48公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图)，卯58公司《集成电路布图设计登记证书》上所记载的完成日期是2009年1月15日为时间界限，所述区域在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计，依据《集成电路布图设计保护条例》第四条规定认定其具有独创性；3.巳60公司所称其创新部分的布图设计中A、B、C、D、E、I、M区域(根据“芯愿景”提供的国家知识产权局备案的芯片QX2304的剖片图像，图像M2层左下角显示为QX2305)，卯58公司《集成电路布图设计登记证书》上所记载的完成日期是2009年1月15日为时间界限，所述区域在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计，依据《集成电路布图设计保护条例》第四条规定认定其具有独创性。
北京紫图知识产权司法鉴定中心作出的上述鉴定意见送达后，戊公司、丁公司提出书面异议。2016年4月28日，北京未62公司提交的书面异议及《模拟电路版图的艺术》一书，对其涉案鉴定意见进行了修改：《模拟电路版图的艺术》(第二版)丁公司提供的信息内容一致(丁公司没有提供ISBN号)，故本中心依据时间为2011年9月在该布图设计登记之后。丁公司质证意见中提到该书出版时间是2008年11月第二次印刷，但未提供复印件证明。因此有疑问，本中心咨询电子工业出版社，得知2008年11月有再版，但市面上无该版本书，《模拟电路版图的艺术》已重新出版，只是ISBN号不同。申63公司提交的复印件ISBN：978-7-121-04004-7，出版时间为2008年11月，作为补充，故B区域鉴定意见应更正为，酉64公司布图设计登记之前，可以作为蛇形功率管画法的公知证据，故B区域没有独创性，原鉴定意见书中的其他鉴定意见不变。
(三)庚公司所称其创新部分的布图设计与其在国家知识产权局备案的布图设计图样相对应部分是否相同进行司法鉴定的情况
在案件审理的过程中，为了查明案件事实，一审法院以拍照方式从国家知识产权局戊159公司备案的布图设计纸质图样。庚公司申请对其所称创新部分的布图设计与其在国家知识产权局备案的布图设计图样相对应部分是否相同进行司法鉴定。戌65公司的申请，一审法院委托北京紫图知识产权司法鉴定中心对上述事项进行司法鉴定。2018年7月3日，北京紫图知识产权司法鉴定中心做出北京紫图[2017]知鉴字第18号《补充鉴定意见书》，内容如下：
北京紫图[2014]知鉴字第122号鉴定意见书的附件1《泉芯QX2304独创性说明及其与微盟ME2108的版图对比》(以下简称：“独创性说明”)亥66公司所称其创新部分的布图设计。
1.根据“独创性说明”记载：
A区域：同步功率管PMOS；B区域：与同步管PMOS并联的二极管；C区域：电感电流过零比较电路。
A区域包含一个沟道总宽度为36600um，沟道长度为1um的曲栅状PMOS管；B区域包含5个长度为101.15um，宽度为4.1um，面积为414.715um2的二极管；C区域包含了一个差动比较器，一个与门和两个上拉开关管；A、B、C区域是因为采用内置二极管所新增加的布图设计。
Ｄ区域：“陷阱电路”
Ｄ区域：包含了2个非门，一个schmitt触发器和一个下拉开关管。此部分版图是用于识别抄袭，戊49公司接触性的实质证据，此区域不连通，没有任何功能。
E区域：PMOS同步功率管驱动与NMOS开关功能管驱动
E区域：包含了2个2输入与门，1个2输入或门，4个非门，两个MOS驱动缓冲器。
G区域：软启动电路
G区域：包含了1个差动比较器，1个2输入或门，1个非门。
H区域：OSC振荡电路
H区域：包含了4个非门、2个反向器、2个schmitt触发器、1个3输入与非门和一个下拉开关管。
I区域：基准产生电路
I区域：包含了9个PNP三极管，一个非门。
M区域：过零检测latch电路
M区域：包含了一个带复位端的D触发器，6个非门，1个2输入或门，一个下拉开关管，一个PMOS恒流源。
2.分析：
“独创性说明”强调的独创部分在“备案布图照片”上显示不清。因此需要借助电子版布图进行比较。
在2014-122鉴定意见书中“独创性说明”丙47公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图(以下简称“电子版布图”)进行了比对，两者对应区域相同。
在此基础上鉴定人员将“备案布图照片”与“电子版布图”进行比对。
“备案布图照片”共14张，其中有两张照片相同。“电子版布图”共13张。电子版bmp图是集成电路布图设计图，显示各元器件其13层中每层的布图。“备案布图照片”与“电子版布图”相比，每对应层的对应区域其位置、布局、形状、颜色相一致。以B区域中的5个二极管为例，其他区域不再做详细说明。在电子版bmp图中A1层颜色为白色，形状基本为长方形外框，并有等距小格，位于布图的左上部偏右；A2层颜色为红色，形状接近正方形，位置与A1层相同；CP层不可见；GT层不可见；IM层不可见；PC层不可见；SN层颜色为黄色，形状为五个并排长度相同的虚线长条，位置与A1层相同；SP层颜色为黄色，形状为五个并排、等距长度相同的实线长条，位置与A1层相同；TB层颜色为红色，形状为五等分的长方形，位置与A1层相同；TO层颜色为白色，形状基本为长方形，位置与A1层相同；TOP层颜色为紫、红、黄、白色，形状为长方形，位置与A1层相同；W1层颜色为白色，形状为实心长方形，中心三分之二处有一黑色竖条，位置与A1层相同；W2层颜色为白色，形状是三段五条长条，中间段五个长条偏右一点，位置与A1层相同。
“备案布图照片”14张图，有两张与“电子版布图”中TOP层相同的照片，“备案布图照片”的颜色相对与“电子版布图”整体有细微差异，“备案布图照片”与“电子版布图”对应区域一一相同，基于“独创性说明”与“电子版布图”中对应的区域相同。
因此，认为“独创性说明”中的A、B、C、D、E、G、H、I、M区域与“备案布图照片”对应部分相同。
基于以上分析对比得出如下鉴定意见：依据现有证据，庚公司所称其创新部分的布图设计与其在国家知识产权局备案的布图设计图样相对应部分相同。
庚公司向北京紫图知识产权司法鉴定中心预支付司法鉴定费15万元。
五、庚公司甲67公司进行财务证据保全的情况
乙68公司生产、销售被诉侵权产品ME2180芯片以及因此获利数额的事实，庚公司丙69公司制造被诉侵权产品ME2180芯片的光刻掩模板，以及生产、销售被诉侵权产品ME2180芯片的加工合同、出货单、销售凭证等财务账目进行证据保全。戌65公司的申请，一审法院到案外人江苏丑166公司、丁70公司的住所，戊71公司协助进行证据保全。己72公司、丁70公司称，丁公司委托其加工的芯片至少有几十款，通常型号为MCS，庚73公司在市场上销售的芯片型号不对应，辛74公司委托的具体布图设计才能提供相关财务账册。己72公司、丁70公司未向一审法院提交相关财务账册及光刻掩模板。
六、戊公司主张不视为侵权抗辩的情况
壬75公司的侵权指控，戊公司抗辩称，庚公司指控其侵癸76公司购买的，庚公司子77公司的名义且以后有大量订单而订购涉案芯片产品。戊公司为证明其抗辩主张，向一审法院提交了采购单、送货单、收款收据、收据、倪某名片等证据材料。采购单有两张，一张显示，定单编号JHX2012030602，物品为MEM2180，规格SOT-89-3，数量2000，单位PCS，单价0.27，金额540元，交期3月8日，交易货币人民币，税率开增值税发票17%，丑78公司的公章；另一张采购单显示，定单编号JHX2012030602，物品为ME2180A28PG，规格SOT-89-3，数量2000，单位PCS，单价0.27，金额540元，交期3月8日，交易货币人民币，税率开增值税发票17%，丑78公司、寅79公司的公章。送货单显示，2012年3月8日，收货单位锦汇鑫，名称及规格①ME6206A30M3G订单编号JHX2012030701，单位PCS，数量3000，单价0.17②ME2180A28PG，订单编号JHX2012030602，数量2000，单价0.27。收款收据显示，2012年3月8日，今收到锦汇鑫货款1050元，卯80公司的公章。收据显示，2012年3月9日，客户名称倪某，货号名称及规格ME2180SOT-89-3，单位PCS，数量2K，单价0.4，金额800元。
庚公司辰81公司提出的不视为侵权抗辩主张及依据的证据不予认可，巳82公司午83公司。丁公司未84公司出售涉案被控侵权的芯片产品，戊公司也不是其代理商，戊公司申85公司采购被控侵权的芯片。
庚公司酉86公司，2010年11月12日，变更为泉芯电子技术(深圳)乙公司。
庚公司为本案诉讼支付律师费38000元，购买被诉侵权产品的费用800元，公证费支出6500元。
一审法院认为，本案为侵害集成电路布图设计专有权纠纷。案件争议的焦点为，庚公司在本案中请求保护的集成电路布图设计专有权的范围该如何确定？丁公司、戊公司戌87公司涉案集成电路布图设计专有权的侵害？戊公司主张不视为侵权的抗辩能否成立？丁公司的不侵权抗辩能否成立？亥88公司、戊公司构成侵权，该如何承担法律责任？处理好上述问题是解决本案纠纷的关键所在。
一、甲89公司在本案中请求保护的集成电路布图设计专有权的范围该如何确定的问题。
(一)庚公司应对其备案登记的布图设计在本案中的保护范围进行确定并对其独创性进行说明和举证
根据我国《集成电路布图设计保护条例》第八条的规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。乙90公司提交了国家知识产权局颁发的第3389号《集成电路布图设计登记证书》，该布图设计登记证书显示，丙91公司，布图设计名称为QX2304，布图设计登记号为BS.09500630.3，布图设计创作完成日为2009年1月15日，布图设计首次投入商业利用日为2009年6月10日。庚公司酉86公司，2010年11月12日，庚公司名称变更为泉芯电子技术(深圳)乙公司。根据上述事实，一审法院辰103公司涉案集成电路布图设计在国家知识产权局进行了备案登记。
根据我国《集成电路布图设计保护条例》第四条的规定，受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。由于我国对集成电路布图设计专有权采用备案登记制，申请人向某知识产权局就其布图设计进行备案登记时，并不被要求说明该布图设计是整体具有独创性还是其局部具有独创性？以及为何具有独创性？申请人只要提交的材料和办理手续符合法律规定，即可以获得备案登记。鉴于此，在侵害集成电路布图设计专有权纠纷案件中，庚公司应首先固定其备案登记的布图设计是整体具有独创性，还是局部具有独创性？并还要说明和举证该布图设计的整体或局部为何具有独创性？丁92公司在本案中是否享有集成电路布图设计专有权以及集成电路布图设计专有权的具体保护范围。
(二)戊93公司备案的复制件或图样载体所反己94公司请求保护的集成电路布图设计范围的依据
根据《集成电路布图设计保护条例》第十六条、第三十九条和《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十四条的规定，申请布图设计登记的应当提交布图设计的复制件或者图样，公众可以请求查阅该布图设计的复制件或图样的纸件；申请人可以根据自己的意愿同时提供该复制件或者图样的电子版本(当然也可以不提供电子版本)，提交电子版本的复制件或者图样的，应当包含该布图设计的全部信息，对于电子版复制件或图样，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制；布图设计已投入商业利用的，应当提交含有该布图设计的集成电路样品。可见，根据上述规定，集成电路布图设计作为法律规定的一种类型化的绝对权，允许社会公众通过查阅备案的布图设计的复制件或图样的方式，来使社会公众知晓布图设计的保护范围，备案布图设计的复制件或图样是确定相应集成电路布图设计专有权的依据。申请人备案的电子版、芯片样品载体所反映的布图设计应当与备案的复制件或图样载体所反映的布图设计保持一致。同一布图设计备案登记的复制件或图样、电子版、芯片样品这三种载体所反映的布图设计应当是相同的。如果申请人备案的电子版、芯片样品载体所反映的布图设计与备案的复制件或图样载体所反映的布图设计不同或不完全相同，这表明申请人没有按照我国《集成电路布图设计保护条例》的规定去办理备案登记。
综上，因备案的复制件或图样载体所反映的布图设计能够供社会公众查阅，且能够对集成电路布图设计起到确定权利范围边界的作用，故在侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案件中，当发生申请人备案的电子版、芯片样品载体所反映的布图设计与备案的复制件或图样载体所反映的布图设计不同或不完全相同，应以备案的复制件或图样载体所反映的布图设计作为权利保护范围的依据。
乙90公司选择A、B、C、D、G、H、M、E、I九个布图设计区域作为涉案集成电路布图设计专有权保护范围的依据。北京紫图知识产权司法鉴定中心作出的北京紫图[2014]知鉴字第122号鉴定意见为，庚95公司选择的A、B、C、D、E、I、辛96公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图设计相对应部分相同，庚公司在国家知识产权局备案的C28B和C33B芯片的布图设计相对应部分相同。庚95公司壬97公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图设计相对应部分相同，癸98公司在国家知识产权局备案的C28B和C33B芯片的布图设计缺少G区域，因此二者在该区域的布图设计不相同。庚95公司子99公司在国家知识产权局备案的QX2304电子版布图设计相对应部分相同，丑100公司在国家知识产权局备案的C28B和C33B芯片的布图设计相对应部分，因个别器件数量有所不同，因此二者在该区域的布图设计不相同。
同时，北京紫图知识产权司法鉴定中心做出的北京紫图[2017]知鉴字第18号《补充鉴定意见书》显示，庚公司在国家知识产权局备案的复制件或图样的布图设计显示不清，午39公司在国家知识产权局备寅101公司备案的QX2304电子版布图设计进行对比，每对应层的对应区域其位置、布局、形状、颜色相一致。备案的复制件或图样的布图设计有14张图，卯102公司备案的QX2304电子版布图设计中TOP层相同的照片，复制件或图样的布图设计的颜色相对与电子版布图设计有细微差异，复制件或图样的布图设计与电子版布图设计中对应的区域相同，因此，辰103公司选择的A、B、C、D、G、H、M、E、巳104公司备案的复制件或图样的布图设计中对应的区域相同。
由上可见，庚公司备案的复制件或午105公司选择的A、B、C、D、G、H、M、E、I布图设计区域，因此，乙90公司选择A、B、C、D、G、H、M、E、I布图设计区域作为涉案集成电路布图设计受保护范围的依据，一审法院予以支持。
(三)乙90公司请求保护的集成电路布图设计区域的独创性情况
只有具有独创性的布图设计才能受到专有权的保护，庚公司为证明其选择的A、B、C、D、G、H、M、E、I布图设计区域具有独创性，向一审法院提交了《泉芯QX2304独创性说明及其与微盟ME2108的版图对比》；同时，庚公司称，D布图设计区域包含2个非门，一个schmitt触发器和一个下拉开关管，此区域不连通，没有任何功能，即该布图实现的功能并不是最初设计的功能，此布图的目的是用于识别抄袭的陷阱电路。丁公司甲23公司上述选择的布图设计区域具有独创性，并提交相应的抗辩证据进行反驳。
北京紫图知识产权司法鉴定中心[2014]知鉴字第122号鉴定意见显示，庚公司上述选择的布图设计区域中A、C、D、E、G、H、I、M区域，卯58公司《集成电路布图设计登记证书》上所记载的完成日期2009年1月15日为时间界限，在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计，依据《集成电路布图设计保护条例》第四条规定认定其具有独创性，B区域不具有独创性。
鉴于此，一审法院认定，庚公司上述A、C、D、G、H、M、E、I布图设计区域具有独创性，受布图设计专有权保护，一审法院依法予以保护；而B布图设计区域不具有独创性，不受布图设计专有权保护，一审法院不予保护。
二、未106公司、戊公司戌87公司涉案集成电路布图设计专有权侵害的问题
庚公司丁26公司以销售方式侵犯其集成电路布图设计专有权，丙25公司以复制、销售方式侵犯其集成电路布图设计专有权，庚公司为证明该主张，向一审法院提交了深圳市南山公证处出具的(2012)深南证字第3407号公证书。
上述公证书载明如下事实：2012年3月9日上午十时二十分，庚公司的委托代理人倪某与深圳市南山公证处公证员史历芳和公证人员张逸宏来到深圳市福田区华强北上步工业区201栋4A25-2室挂有“丙公司”的场所，以普通消费者身份购买了两圆盘ME2180A28PG芯片，并取得盖有“丙公司财务专用章”的收据。戊公司认可曾向倪某销售过两盘芯片。基于上述事实，一审法院认定，戊公司实施了销售涉案被控侵权芯片的行为。
上述公证购买的两圆盘ME2180A28PG芯片的封面标有“甲公司”字样，型号ME2180A28PG，生产日期2011/07/17。丁公司认可从被己28公司的芯片产品。基于上述事实，一审法院认定，丁公司实施了生产、销售涉案被控侵权芯片的行为。
北京紫图知识产权司法鉴定中心[2014]知鉴字第122号鉴定意见显示，庚公司在本案中要求保护的具有独创性的A、C、D、E、H、I、M布图设计区域与涉案被诉侵权产品的相应区域的布图设计实质性相似，G区域无法判断。基于此，一审法院依法认定，丁公司以复制、申107公司对上述A、C、D、E、H、I、M布图设计区域所享有的专有权。
三、戊公司主张不视为侵权抗辩能否成立的问题
根据我国《集成电路布图设计保护条例》第三十三条的规定，在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。壬75公司的侵权指控，戊公司抗辩称，其销售的被酉108公司购买的，因此依法不应视为侵权行为。
戊公司为支持该抗辩主张，向一审法院提交了采购单、送货单、收款收据、倪某名片等证据。采购单有两张，一张显示，定单编号JHX2012030602，物品为MEM2180，规格SOT-89-3，数量2000，单位PCS，单价0.27，金额540元，交期3月8日，交易货币人民币，税率开增值税发票17%，丑78公司的公章；另一张采购单显示，定单编号JHX2012030602，物品为ME2180A28PG，规格SOT-89-3，数量2000，单位PCS，单价0.27，金额540元，交期3月8日，交易货币人民币，税率开增值税发票17%，丑78公司、寅79公司的公章。送货单显示，2012年3月8日，收货单位锦汇鑫，名称及规格①ME6206A30M3G订单编号JHX2012030701，单位PCS，数量3000，单价0.17②ME2180A28PG，订单编号JHX2012030602，数量2000，单价0.27。收款收据显示，2012年3月8日，今收到锦汇鑫货款1050元，卯80公司的公章。收据显示，2012年3月9日，客户名称倪某，货号名称及规格ME2180SOT-89-3，单位PCS，数量2K，单价0.4，金额800元。
根据上述事实，一审法院认为，戌109公司提交的证据来看，亥110公司购买的芯片产品，在时间、价格、产品名称、数量等方面，庚公司戌109公司购买被诉侵权产品的信息情况相吻合，基于此，一审法院认定，戊公司销售的被控侵权甲111公司合法购买的，且在主观上不知道也没有合理理由知道该芯片产品是侵犯他人集成电路布图设计专有权的产品，因此，戊公司不视为侵权的抗辩主张成立，庚公司辰81公司的侵权指控，一审法院不予支持。
四、未106公司的不侵权抗辩能否成立的问题
乙112公司抗辩，其亦在国家知识产权局进行了布图设计登记，被控侵权的布图设计使用的是其享有专有权的布图设计，因此，其没有侵犯涉案集成电路布图设计专有权。丙113公司做出的1114-3QVS.1128-28相似度验证报告结论显示，丁公司生产、销售的被诉侵权产品芯片(1128-28)丁公司在国家知识产权局备案的芯片(1114-3Q)二者版图相似度为91.94%。丁114公司生产、销售被诉侵权产品芯片中的布图设计与其在国家知识产权局备案芯片中的布图设计并非完全相同。同时，根据北京紫图知识产权司法鉴定中心做出的北京紫图[2014]知鉴字第122号鉴定意见显示，庚公司在本案中主张享有A、B、C、D、E、G、H、I、M布图设计专有权的区域，丁公司生产、销售的被诉侵权产品芯片(1128-28)丁公司在国家知识产权局备案芯片(1114-3Q)的相应区域的布图设计相同。
我国对集成电路布图设计采用备案登记制，登记机关对备案登记的布图设计是否具有独创性，并不进行实质性审查、判断。庚公司在国家知识产权局备案的第3389号布图设计登记证书显示，庚公司BS.09500630.3号布图设计申请日为2009年8月22日，创作完成日为2009年1月15日，首次投入商业利用日为2009年6月10日，布图设计颁证日为2010年6月24日。未公司在国家知识产权局备案的第4991号布图设计登记证书显示，丁公司BS.11500561.7号布图设计申请日为2011年6月10日，创作完成日为2010年10月31日，布图设计颁证日为2011年10月28日。由此可见，庚公司在国家知识产权局备案的布图设计的创作完成日、首次投入商业利用日，戊115公司在国家知识产权局备案的布图设计的创作完成日。本案中，庚公司选择的在先设计的A、C、D、E、H、I、M布图设计区域具有独创性，未公司在后被控侵权芯片包含了这些区域，己116公司称，其布图设计D区域不连通，没有任何功能，即该布图实现的功能并不是最初设计的功能，换句话说，该布图设计区域可以起到识别抄袭的陷阱电路作用，庚117公司生产、销售的芯片包含该陷阱电路区域，未公司壬75公司的该主张并未形成有效抗辩，丁114公司在主观上存在侵权的主观过错。因此，丁公司该不侵权抗辩，一审法院不予采信。
综上，庚公司丁26公司以销售方式侵犯其集成电路布图设计专有权，请求法院判令其立即停止侵权，一审法院予以驳回。庚公司丙25公司以复制、销售方式侵犯其集成电路布图设计专有权，辛118公司立即停止侵权、销毁侵权产品，一审法院予以支持。午公司丁公司均未提供“壬119公司癸120公司子121公司因侵权获利数额”的确切证据，故一审法院综合考虑庚公司涉案布图设计的研发需要较大投入，丁公司在主观上存在侵权过错、侵权性质为复制、销售侵权，子33公司为制止侵权所支出的合理费用等因素，丑122公司戌公司经济损失人民币300万元。庚公司其他诉请缺乏依据，一审法院不予采纳。一审法院根据《集成电路布图设计保护条例》第四条、第七条、第八条、第十六条、第三十条、第三十三条第一款、《中华人民共和国民事诉讼法》第六十四条第一款之规定，判决:一、丁公司酉公司BS．09500630．3号QX2304集成电路布图设计专有权的行为，并销毁含有该布图设计的侵权产品；二、丁公司寅123公司经济损失及合理维权费用人民币300万元；三、卯124公司其他诉讼请求。一审案件受理费人民币30800元，丁公司负担。证据保全费人民币30元，丁公司负担。庚公司已预付的司法鉴定费人民币20万元，丁公司负担。丁公司已预付的司法鉴定费人民币5万元，由其自行负担。丁公司如未按判决指定的期间履行给付金钱义务，应当加倍支付迟延履行期间的债务利息。
二审期间,辰125公司向本院提交8份新证据：证据1是国家图书馆出具编号为2019-NLC-GCZM-0145的检索报告，巳126公司主张保护的陷阱区域D区域是本领域的常规Dummy设计；证据2是国家图书馆出具编号为2019-NLC-GCZM-0162的检索报告，拟证明被诉侵权芯片的B区域采用的是常规设计，庚公司主张保护的B区域设计不同；午127公司出具的MCS9062芯片生产情况说明，证据未128公司申129公司的圆片测试报告单，酉130公司于2019年2月15日出具的ME2180芯片生产销售情况说明，某事务所戌131公司审计报告书，证据3-证据6拟共同证明一审判决确定的损害赔偿额于法无据、显失公平；亥132公司提交的QX2304独特创性说明，巳126公司主张保护的陷阱区域D区域是本领域的常规Dummy设计，以及通过投片厂商来生产芯片是行业的惯例，投片厂商出具的声明可以说明芯片的生产情况；证据8是(2015)民申字第745号民事裁定书，拟证明最高人民法院的在先判例已经确认，不清楚的登记备案的图样纸件不能作为权利基础，权利人应当承担不利后果。
庚公司甲133公司提交的上述证据的真实性、合法性、关联性均不予确认。
本院查明，一审查明的事实属实，本院予以确认。
另查明，丁公司提交的南京市玄武区市场监督管理局于2020年7月30日出具的营业执照记载，其法定代表人为秦某。
还查明，北京紫图知识产权司法鉴定中心于2016年4月28日对[2014]知鉴字第122号鉴定意见进行修改，称：B区域鉴定意见应该更正为没有独创性，其他鉴定意见不变。二审庭审中，丁公司庚公司均确认北京紫图知识产权司法鉴定中心在上述修改意见中误将A区域写成B区域。因此鉴定结论应该是A区域没有独创性，其他区域具有独创性。
再查明，丁公司在二审庭审中确认图样的电子版与纸件一致，但认为与样品不一致。
又查明，二审庭审中，丁公司还申请了池保勇作为专家辅助人员出庭作证，池保勇主要对以下问题发表了意见：1.庚公司请求保护的B区域与被控侵权芯片不相同，被控侵权芯片是一个环形设计，是一个器件，乙134公司请求保护的B区域可能是多个不同器件；2.在集成电路领域里面，各层之间的连接关系是比较重要的，如果缺失两层之间的过渡层会导致无法判断其有效的连接关系及电路性能，从而无法对两个布图设计进行判定。在集成电路布图设计中，某些功能的器件可能只存在于某几个层，但是在进行鉴定时，至少重要的层是必须鉴定的，仅凭其中几层的布图设计是无法把原始电路恢复出来的；3.Dummy设计在集成电路设计中经常使用，其作用在于保证两个核心器件的周围环境一致，但一般不会使用简单的Dummy设计作为陷阱设计，在D区域的位置一般也不会出现Dummy设计。
再查明,庚公司在一审时提交的《QX2304独创性各部分详解》对其请求保护的部分进行了独创性说明，并将其请求保护的独创性部分分别标注为A、B、C、D、G、H、M、E、I，其中D区域是陷阱区域，此区域不连通，没有任何功能；A、B、C、G、H、M是常规设计中没有的设计，或者说是较常规设计而言新增的模块；E、I是较常规设计而言具有一定独创性。同时，在附图中明确A区域在多晶层(POLY1)、一铝(A1)和二铝(A2)这三层是主要层，并提交了该三层的布图设计图样，对于其他层的设计，庚公司进行说明称：其他层为通孔、有源区、NPLUS,PPLUS等共涉及七层，对外通过一铝连接到VSS,VDD，通过二铝有三个连接口，分别连接到LX和VOUT的PAD位以及E区域(DRIVER)。B区域在有源区(ACTIVE)，一铝(A1)和二铝(A2)以及阱这四层是主要层，并提交了该四层的布图设计图样，其他层是通孔，NPLUS,PPLUS等共涉及五层，对外通过一铝连接到VSS,VDD，通过二铝有二个连接口，分别连接到LX和VOUT的PAD位。C区域在有源区(ACTIVE)，多晶(POLY1),一铝(A1)和二铝(A2)这四层是主要层，并提交了该四层的布图设计图样，其他层是通孔，NPLUS,PPLUS等共涉及六层，对外通过一铝连接到M区域ZEROLATCH和VSS及VDD，通过二铝有五个连接口，分别连接到CLK,LX,EN,VBN,VDD。G区域在有源区(ACTIVE)，多晶(POLY1),一铝(A1)和二铝(A2)这四层是主要层，并提交了该四层的布图设计图样，其他层是通孔，NPLUS,PPLUS等共涉及六层，对外通过一铝连接到V90和VBP和VSS及VDD，通过二铝有二个连接口，分别连接到E区域(DRIVER)和VSTRB。H区域在有源区(ACTIVE)，多晶(POLY1),一铝(A1)和二铝(A2)这四层是主要层，并提交了该四层的布图设计图样，其他层是通孔，NPLUS,PPLUS等共涉及六层，对外通过一铝连接到VSS,VDD，通过二铝有四个连接口，分别连接到E区域(DRIVER)和C区域过零检测和M区域ZEROLATCH和一个或非门及一个锁存器。M区域在有源区(ACTIVE)，多晶(POLY1),一铝(A1)和二铝(A2)这四层是主要层，并提交了该四层的布图设计图样，其他层是通孔，NPLUS,PPLUS等共涉及六层，对外通过一铝连接到G区域低压启动电路以及VSS和VDD，通过二铝有六个连接口，分别连接到VBP,VOUT,CLK,CEBB,RST和SFS。E区域在有源区(ACTIVE)，多晶(POLY1),一铝(A1)和二铝(A2)这四层是主要层，并提交了该四层的布图设计图样，其他层是通孔，NPLUS,PPLUS等共涉及六层，对外通过一铝连接到A区域同步管和NDRIVE和VSS及VDD，通过二铝有三个连接口，分别连接到PEN,A,EN。I区域在有源区(ACTIVE)，多晶(POLY1),一铝(A1),二铝(A2),IMC以及PC这六层是主要层，并提交了该六层的布图设计图样，其他层是通孔层，对外通过一铝连接到VSS,VDD，通过二铝有三个连接口，分别连接到VBN,VBG,CEBB。
本院认为，本案系侵害集成电路布图设计专有权纠纷，丙135公司丁136公司的答辩意见，本案二审的争议焦点为：1.庚公司对其在本案中请求保护的9个区域是否享有布图设计专有权；2.丁公司戊137公司布图设计专有权；3.己138公司承担的赔偿数额是否合法合理。
一、甲89公司对其在本案中请求保护的9个区域是否享有布图设计专有权的问题
本院认为，这个焦点问题需要解决的就是在集成电路布图设计侵权纠纷中，当事人主张的布图设计专有权范围如何确定的问题。《集成电路布图设计保护条例》第七条第一项、第三十条第一款第一项规定，布图设计权利人对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分都享有专有权；未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的，都必须立即停止侵权，并承担赔偿责任。因此，当事人主张专有权的范围可以是布图设计全部，也可以是布图设计中任何具有独创性的部分，但前提是其主张专有权的内容在其受保护的布图设计权利边界内。根据《集成电路布图设计保护条例》第八条规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受条例保护。据此，当事人受保护的布图设计即为其在国务院知识产权行政部门登记的布图设计。
(一)如何通过当事人在国务院知识产权行政部门登记的信息确定受保护的布图设计
对布图设计进行登记，除了是对权利进行必要的公示公告外，最重要的意义就是固定和确定权利内容或者说是确定权利范围。为了有效确定权利内容和范围，我国《集成电路布图设计保护条例》第十六条明确规定，申请人在申请布图设计登记时，除需提交申请表等相关资料外，应当提交布图设计的复制件或图样，布图设计已投入商业利用的，还应当同时提交含有该布图设计的集成电路样品。申请表等资料可以体现权利主体，即布图设计的设计人、专有权申请人等方面的信息，布图设计的复制件、图样以及集成电路样品则作为载体可以呈现布图设计的内容。当布图设计未实际投入商业利用时，由于申请人备案登记的布图设计载体只有复制件或者图样，因此毫无疑问应当以复制件或者图样呈现的布图设计确定专有权保护范围。但是若布图设计在登记时已经投入商业利用，登记备案的布图设计载体除了复制件或者图样之外，还有集成电路样品，当存在不同载体的情况下，应当如何确定受保护的布图设计内容或者布图设计专有权范围，成为确定布图设计专有权范围的关键。对此本院认为：
1.布图设计专有权范围应当以布图设计的复制件或者图样为主，必要时样品可以作为辅助参考。首先，这是由布图设计复制件或图样与集成电路样品的性质决定的。布图设计的复制件是对申请人独创的布图设计直接进行的重复制作，本质上就是该布图设计本身；布图设计图样是将布图设计这种三维配置先进行分层，再将每层的设计以二维图片的方式进行呈现。而集成电路样品是根据布图设计复制件或者图样进行工业化生产后的结果，很有可能在生产工艺、加工技术等因素的影响下，样品中最终呈现的三维配置与其起初参照的布图设计存在差异，且样品呈现布图设计需要对样品进行剖片，通过反向工程提取布图设计。因此以复制件或者图样确定布图设计内容更为确定、直接和客观。其次，登记备案的目的就是固定以及确定专有权范围，是申请人对想要获得专有权保护的布图设计范围的自我划界。因此申请人在登记时有权提交投入工业生产形成样品需要的全部布图设计，也可以提交其中的部分布图设计，只要其提交的布图设计是“集成电路中至少有一个是有源元件的两个上元件和部分或者全部互连线路的三维配置”即可。而集成电路样品是能够投入商业利用的工业化产品，其需要包含实现特定电子功能所需的所有配置信息，故样品中的三维配置内容可能会大于复制件或者图样中的内容，当然也可能因为实际加工的需要或者生产工艺的限制等因素使得样品中需要放弃部分图样中的设计,导致图样与样品并不完全相同。申请人想要在整个三维配置中划定其想要获得保护的边界或者范围，通常还是需要通过提供复制件或者图样的方式进行明确。可见，对固定布图设计内容、划定权利边界起主要作用的是复制件或者图样，样品更多发挥的是示例和解释的作用。再次，法律明确规定，布图设计的登记以提交布图设计复制件或者图样为必要条件，即便在已经投入商业利用需要提交样品的情况下，仍应当提交布图设计复制件或者图样，也足见布图设计复制件或者图样在确定受保护布图设计内容和专有权范围方面有着不可或缺和不可替代的作用，应当将其作为确定布图设计专有权范围的主要依据，而当图样不清晰的情况下，可以通过对样品进行反向工程提取布图设计以确定设计细节。
2.复制件或者图样与样品不一致时，不能直接对已经完成登记的布图设计不予保护。虽然《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十七条规定，申请人提交的布图设计复制件或者图样与集成电路样品不一致时不予受理。但在完成登记后发现二者不一致时，不宜因为存在不一致的情形就直接不予保护。理由如下：一方面，从授权角度看，《集成电路布图设计保护条例》第四、第八条明确规定，受保护的布图设计应当具有独创性，其专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。据此，布图设计获得专有权保护的前提是具有独创性并且经过登记。即只要申请人的布图设计具有独创性并进行登记，申请人就对该布图设计享有专有权。权利人在此时是否生产样品投入商业利用，以及投入商业利用的样品与其备案登记的布图设计复制件或者图样是否一致，都不应该成为影响权利人对同时符合了实质和程序要件的布图设计享有专有权的障碍。因此即便申请人提交的集成电路样品与其提交的布图设计图样不一致，在该布图设计未被撤销登记之前，申请人对其已经完成登记的布图设计中具有独创性的内容依法均享有专有权。另一方面，从撤销授权角度看，对比《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十七条规定的不予受理的情形和该实施细则第二十九条规定的应予撤销登记的情况可知，当登记部门对实施细则规定不应受理的“外国申请人的所属国未与中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关国际条约、所涉及的布图设计已经超过保护期限的、所涉及的布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记的、申请类别不明确或者难以确定其属于布图设计的”等四种情形予以登记的，发现后应当予以撤销。但对于应当不予受理的“提交的样品与图样不一致、申请文件未使用中文、未按照规定委托代理机构的以及申请表填写不完整”情况进行了受理登记，却未规定发现后要对该登记予以撤销。可见登记样品与图样不一致和填写申请表不完整的情形类似，同属一般登记瑕疵，虽有不妥之处，但行政授权机关不会因此撤销对其已经完成的登记，导致申请人权利丧失。同理，司法程序中亦不宜仅仅因为样品与图样不一致就否定布图设计专有权的存在。
3.当布图设计复制件或者图样与集成电路样品不一致时，对复制件或者图样所载的布图设计应赋予专有权保护。根据条例规定，只有已经投入商业利用的布图设计才需要提交样品，并要求提交的样品与复制件或者图样相一致，若未实际投入商业利用，则不需要提交样品，仅需提交复制件或者图样。据此，申请人若提交的集成电路样品与布图设计复制件或者图样实质不一致，表明备案图样中的布图设计与实际投入商业利用的布图设计并非同一布图设计，则可以视为备案登记的布图设计并未实际投入商业利用，不需要提交样品。在此情况下，当然应当对已经完成登记的图样所载布图设计赋予专有权保护。
综上所述，本院认为，针对布图设计专门立法，旨在加强对集成电路布图设计的保护，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。当布图设计实际投入商业利用时，条例要求申请人同时提交集成电路样品，实施细则要求提交的样品需要与复制件或者图样相一致，这些规定的目的也都是为了进一步加强对布图设计的保护，而非对布图设计获得保护设置障碍。在集成电路布图设计侵权纠纷中应当准确理解和把握布图设计复制件或者图样以及集成电路样品在确定布图设计内容方面发挥的作用，在确定集成电路布图设计专有权范围时，以布图设计的复制件或者图样为主，必要时可以参考集成电路样品确定布图设计专有权范围。当复制件或者图样与样品完全不同时，至少复制件或者图样中所载布图设计不应被排除在专有权范围之外。
(二)侵权纠纷中具体保护范围的确定
一旦确定权利人登记的布图设计内容和权利范围后，权利人可选择对登记的布图设计全部或者其中任何具有独创性的部分主张专有权保护，这属于当事人意思自治的部分。因此权利人在具体的侵权纠纷中，应当根据自己的主张，进行独创性说明，该独创性说明应该包括其主张保护的究竟是集成电路布图设计的全部还是其中具有独创性的特定部分，以及独创性的基本依据，法院根据权利人的该独创性说明，确定权利在侵权纠纷中主张的具体保护范围。
如何理解“任何具有独创性的部分”的问题。本院认为，首先，对于“独创性”部分的理解。根据《集成电路布图设计保护条例》第四条规定，独创性即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。据此，即便权利人在具体纠纷中主张保护的是部分，也应当满足独创性要求，即该部分的设计需是自己的智力劳动成果，且在当时不属于常规设计。也可以是由常规设计组成，但组合而成的部分应当依然不属于常规设计。其次，对于“任何”部分的理解。本院认为，对布图设计进行划分的通常做法是先从顶层将布图设计划分成若干模块，每一个模块还可以细分：若从顶层划分，该模块可以划分成更小的子模块；若纵向横切划分，该模块则可以进一步分成若干层。顶层模块布局的影响因素包括：模块数量、模块相对位置两个重要因素。而影响模块内部布局的原因比较复杂，包括图元面积、图元层次、图元形状、图元相对位置以及图元数量等方面。可以获得保护的是“任何”部分，就应该不仅可以是顶层中划定出某个大的模块，也可以是该模块内子模块，还可以是某模块中内部的某层中的布图设计，只要其具有独创性，均可受到专有权保护。之所以对“任何具有独创性的部分”做上述理解，理由如下：首先，从法律规定来看，法律保护集成电路布图设计中“任何具有独创性的部分”，对“部分”作出的唯一限定条件是“独创性”，对于该部分是否是核心部分，或者在整个布图设计中所占的比例以及是否是一个完整独立的模块，是否本身需要可以独立成为一个集成电路布图设计均无要求。其次，如果具有独创性的部分布图设计仅因为其在整个布图设计中所占比例很低或者并非核心部分或者不独立成为模块而无法获得保护，那么对于这些部分的复制将会肆意而为，将无法通过公平竞争来促进整个集成电路行业的设计创新，无法实现立法目的和初衷。
(三)本案中如何确定权利人请求保护的专有权范围
本案中，庚公司在独创性说明中明确其主张保护9个区域，并分别提交了该9个区域中其认为具有独创性的部分分层中的设计图样。丁公司上诉认为不能确定该9个区域是否经过备案登记,且该9个区域并不符合集成电路布图设计的概念要求也不具有独创性，因此该9个区域不能获得专有权保护。本院对此分别评述如下：
1.关于该9个区域是否经过备案登记的问题。要比对该9个区域是否是登记的布图设计的一部分，庚139公司备案的载体确定受保护布图设计的范围。庚公司备案登记的布图设计载体有图样纸件、图样电子版以及芯片样品三种。其中图样纸件与图样电子版中的布图设计一致，但与芯片样品的布图设计存在两个区域，即G区域与H区域不同，其余部分相同。在此情况下，第一，备案登记的图样与样品不一致并不会导致权利人失去专有权保护，丁公司辛140公司没有权利基础的上诉理由不能成立。第二，当图样与样品不一致时，图样中呈现的布图设计仍受专有权保护。壬141公司又主张只有图样的纸件中所呈现的布图设计可以受到保护，而本案中图样纸件不清晰，所以无法确定专有权范围，也不能进行侵权比对。对此本院认为，首先，从法律规定来看，确定布图设计专有权范围的主要载体是布图设计复制件或者图样，并未规定图样的具体表现形式必须是纸件而不能是电子版；其次，丁公司关于“以纸件图样确定专有权范围”的主张建立在布图设计是“以公开换保护”的制度设置基础上，然而布图设计是否是“以公开换保护”目前仍存在很大争议，至少从《集成电路布图设计保护实施细则》第十五条关于“在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息……含有该保密信息的图层的复制件或者图样……除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息”来看，这些保密信息虽未对外公开，但并不会因其未公开而无法获得专有权保护。癸142公司的该主张缺少法律依据，不能成立。此外，丁公司确认图样电子版与纸件一致，故以电子版还是以纸件确定专有权范围在本质上也并无差异。因此，丁公司关于只能以纸件图样确定布图设计内容和权利范围，而纸件不清晰无法完成任何比对的上诉理由不能成立，本院不予支持。因此，子143公司提交的图样电子版确定专有权范围，对于样品中与图样一致的部分可以作为辅助确定布图设计细节。午39公司请求保护的9个区域与其提交备案登记的图样电子版以及样品中与图样一致的区域进行比对，一审法院根据鉴定报告确认该9个区域与图样中的对应区域相同，与样品中对应的7个区域(除去与图样不一致的G、H两个区域)相同，丑144公司请求保护的9个区域已经备案登记并无不当，本院予以维持。
2.关于该9个区域是否可以作为“独创性部分”获得专有权保护的问题。首先，如前所述，独创性部分并不要求是完整的布图设计，既可以是一个独立模块内的全部设计，也可以是该模块中部分分层中的设计，只要具有独创性即可。癸142公司关于该9个区域不是完整布图设计不能获得保护的上诉理由不能成立。其次，关于该9个区域是否具有独创性的问题。庚公司在其提交的“独创性说明”中对上述区域的独创性进行了简要说明，同时提交了鉴定机构关于上述区域的独创性鉴定，鉴定结论显示，上述区域中除了B区域不具有独创性外，其他区域均具有独创性。庚公司丁公司在二审中均确认该独创性鉴定结论将A区域误写成了B区域，故双方确认鉴定结论应该是：除了A区域，其他区域均具有独创性。本院认为,该鉴定并无违法导致无效的情形,本院在更正笔误的基础上对鉴定结论予以确认。丁公司对于该鉴定作出的独创性判定有异议，应当举出反证予以证明。本案中，丁公司在二审期间仅针对D区域不具有独创性提交了证据，丁公司认为D区域是布图设计中常见的Dummy设计，因此属于常规设计，不具有独创性。对此本院认为，首先，鉴定报告对其独创性已经做出鉴定，认定该D区域具有独创性。其次，Dummy设计是指在版图设计中增加的与电路匹配无关的图形。但是，该设计并非不发生任何作用，而是发挥了减少中间过程偏差的作用，具体用途包括：确保可制造性，防止芯片在制造过程中由于曝光过度或不足而导致的蚀刻失败；避免由于光刻过程中光的反射与衍射而影响元器件物理图形的精度；避免芯片中的噪音对关键信号的影响等等。乙134公司主张保护的D区域，虽最终没有在电路匹配中发挥作用，但其本身并不是一个冗余设计，而是一个低压启动电路设计，只是在后来该设计体现的功能被实际弃用。可见，寅145公司主张的常规Dummy设计并不相同。再次，丁公司聘请的专家证人也证实，在D区域的位置一般不会出现Dummy设计。因此，丁公司关于D区域是一种常规Dummy设计的上诉理由不能成立，本院不予支持。综上所述，卯146公司主张保护的9个区域中除A区域之外的其他8个区域均具有独创性，丁公司上诉主张该8个区域不具有独创性，但未能举证证明，其该上诉理由亦不能成立，本院不予支持。
综上所述，庚公司主张保护的9个区域A、B、C、D、E、G、H、I、M均已经完成登记备案，其中B、C、D、E、G、H、I、M符合独创性的要求，因此，庚公司可就B、C、D、E、G、H、I、M等8个区域主张布图设计专有权保护。
二、未106公司戊137公司布图设计专有权的问题
本案中，辰147公司制造、销售了被诉侵权芯片并无异议，双方争议的巳148公司享有专有权的布图设计。因午149公司在本案中享有专有权的B、C、D、E、G、H、I、M等8个区域的设计与被诉芯片中对应部分的设计是否相同或者实质相同。这有两个层次的问题需要解决：1.确定侵权比对的内容；2.作出相同或者实质相同的判定。
侵权比对的内容取决于集成电路布图设计的内容。《集成电路布图设计保护条例》第二条第二项规定，集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互联线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。据此布图设计创作者进行布图设计创作，就是确定布图设计中采用的元件的类型、数量、大小，各元件分配在哪层以及在该层所处的位置，各元件之间的连接关系，互联线路的走线方式以及各元件连接后形成的特定组合等等要素。因此在进行侵权比对时，我们需要比对的就是上述布图设计的内容，而不需要考虑布图设计所要实现的功能等。
关于布图设计相同或者实质相同的标准。考虑到集成电路布图设计创新空间的有限性，对于两项集成电路布图设计是否构成实质性相同应当采用较为严格的标准来认定，即只有在被诉侵权集成电路与受保护集成电路中的全部或者部分布图设计存在“极为相似”的情形下，才认定构成“实质性相同”，从而存在侵权的可能。由于任一部分的布图设计如果达到实质性相同的标准就可能被判定为侵权，因此采用严格标准来判定实质性相同也有利于平衡专有权人和被控侵权人之间的利益，既能保护权利人的合法利益鼓励创作，也不至于让后来者束手束脚不敢利用前人的产品再创新。在具体判断何为严格的“极为相似”的布图设计时，应以电子元件、互连线路形成的三维配置为基准，重点考虑电子元件之间三维位置关系，也就是说除了考虑互连线路的三维配置外，互连线路连接着的元件所呈现的组合以及其在三维空间的配置在判断布图设计是否“极为相似”时更为重要。同时，由于集成电路布图设计保护独创性的设计，如果被诉设计与权利设计相比，虽存在不同，但不同之处是常规设计，仍应认定二者实质相同。
关于本案中，庚公司享有专有权的B、C、D、E、G、H、I、未150公司被诉产品中的对应部分是否相同或者实质相同的问题。丁公司上诉认为，在进行侵权比对时，庚公司仅提交了其主张保护的9个区域的其中三层设计，并没有提交全部设计，无法进行侵权比对。对此本院认为，根据本院查明事实，庚公司在进行侵权鉴定时提交了其请求保护的9个区域的独创性说明，该说明中附上了涉案9个区域中其认为具有独创性的几个主要分层中的设计图样，其余几个分层中的设计均以文字形式说明该几层中的设计主要是通孔或者起链接作用的常规设计。如前所述，权利人可以请求保护的独创性部分，不必须是独立的模块或者独立的布图设计，任何具有独创性的部分均可以成为专有权保护的范围。在本案中，庚公司已经明确说明其提交的9个区域中具有独创性的部分主要分布在其提交的几个主要分层中，一审法院仅将上述分层中的设计确定为保护对象，鉴定机构仅对上述分层中的设计与被诉产品中的对应设计进行比对，并无不当。丁公司的该项上诉理由不能成立，本院不予支持。北京紫图[2014]知鉴字第122号鉴定意见显示：庚公司提交鉴定的9个区域中具有独申151公司被诉产品中的对应区域比对，除了G区域无法判断外，其他几个区域的设计相同。丁公司对于鉴定机构针对上述A、C、D、G、E、I、M等8个区域的比对结论没有异议，但对于B区域的比对结论有异议。丁公司认为，庚公司在B区域中使用的设计是二极管的并联结构，是多个独立器件的组合，而被诉产品中的二极管设计为常规设计中的环形设计，在整体上形成一个大的二级管，是一个独立器件，这两种设计存在本质区别。庚公司则认为，二者是使用了基本相同的技术手段，实现了基本相同的功能，因此二者构成等同。对此本院认为，首先，集成电路布图设计专有权保护的是元件和线路组成的三维配置，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等，所以电路要实现的功能等内容，不属于布图设计的保护范围，因此在侵权比对时，不需要对布图设计所要实现的功能进行比对，也不存在等同技术的问题。其次，集成电路布图设计在本质上是一种三维图形设计，是对集成电路的一种表达，相同的集成电路功能也可以有不同的布图设计呈现，集成电路布图设计专有权保护的就是最终表达呈现的有别于以往常规表达方式的布图设计。即便是实现的功能基本相同，但若使用的元器件不同，或者数量不同，或者相互间的位置关系不同，或者互联线路的走位方式不同，均可能形成一个新的布图设计。本案中，即便两个布图设计最终可以实现相同的功能，但由于被诉设计采用无间断的二极管，本质上还是一个元器件，乙134公司采取的设计是有数个单管，即数个元件排列组成，二者采用的元器件的类型以及数量等均不同，形成的位置关系也不同，故而呈现的布图设计不同。因此，丁公司甲89公司主张保护的B区域设计与被诉产品中对应区域的设计不同的上诉主张成立，本院予以支持。
综上所述，庚公司仅对其主张保护的B、C、D、E、G、H、I、M八个区域享有专有权，酉152公司主张保护的B区域的布图设计不同，G区域因无法判断不能确定二者是否相同，其余部分的设计均相同，癸142公司戌153公司布图设计中C、D、E、H、I、M六个区域的专有权。
此外,丁公司还以被诉侵权设计是其独创为由主张不侵权抗辩，对此本院认为，根据《集成电路布图设计保护条例》第二十三条第三项规定，对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。丁公司主张其使用的被诉设计系其独创，应当举证证明。本案中，丁公司主张独创性的依据是其被诉设计也曾经过国务院知识产权行政部门登记。本院认为，国务院知识产权行政部门在办理登记时，并不对申请登记的布图设计是否具有独创性进行实质审查，在无相反证据的情况下，相关的备案登记可以作为该布图设计具有独创性的初步证据，但若存在相反证据的情况下，则需要申请人进一步对独创性进行证明。本案中，丁公司虽然对被诉设计进行了登记，癸98公司丁公司登记前已经对相同的布图设计进行了登记并将该相同布图设计投入商业利用，丁公司欲主张独创性，应当进一步提交设计思路形成资料、设计稿原件、实验数据等等能证明独立创作的证据，亥154公司并未进一步举证，应当承担举证不能的不利后果。此外，庚公司设计的D区域由于没有连通导致不能发挥最初设计的功能，最终被作为陷阱区域用在布图设计中，未公司在被诉设计中不仅使用了该D区域的设计，甲155公司的相同，乙156公司丙157公司的设计，而非独立创作。丁公司关于被诉设计系其独创的主张不能成立，本院不予采信。
综上所述，丁公司关于其不侵权的上诉理由不能成立，本院不予支持。
三、丁158公司承担的赔偿数额是否合法合理的问题
《集成电路布图设计保护条例》第三十条规定，“除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何独创性的部分的；(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品的。侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。”
本案中，丁公司戊159公司受保护布图设计中具有独创性的部分，并投入商业利用，己160公司布图设计专有权，应当对其造成的损失承担赔偿责任。癸142公司关于其不应当承担赔偿责任的上诉主张不能成立，本院不予支持。
丁公司在上诉中还主张即便应当承担赔偿责任，庚161公司的实际侵权获利确定赔偿数额。辛162公司向本院提交了涉案被诉芯片生产情况、销售情况的说明以及一份审计报告书，丁公司认为其提交的证据足以证明其于2011-2014年间生产被诉芯片的收益毛利仅为68.67万元，因此一审法院判决丁公司戌公司300万数额过高。对此本院认为，首先，丁公司提交的《ME2180芯片生产销售情况说明》是其单方陈述，并未提交相关销售记录或者销售报表、财务账册等证据予以佐证，真实性无法确认；丁公司壬163公司癸164公司单方提供的资料进行的单项审计，其真实性存疑。其次，该审计报告书显示2012年、子165公司仍在销售被诉侵权产品且有收益，丑166公司寅167公司出具的生产销售情况说明显示，丁公司卯168公司生产被诉产品的时间仅为2010年12月31日至2012年1月4日；未公司在上诉状中称，其一直到2012年11月才同时停止制造、销售被诉产品。可见，丁公司的主张与其提交的各种证据之间相互矛盾，本院无法对其真实性予以确认。因此，丁公司提交的该等证据不能证实其实际侵权获利情况，其关于按照该等证据确定赔偿数额的上诉主张不能成立，本院不予支持。
此外，丁公司辰169公司并没有证据证明其实际损失，一审法院通过酌定的方式确定赔偿额没有法律依据。对此本院认为，《集成电路布图设计保护条例》第三十条规定，侵犯布图设计专有权的赔偿数额，可以是侵权人所获得的利益亦可以是被侵权人所受到的损失，此外还包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。本案中，庚公司虽没有举证证明其因被侵权受到的实际损失，但主张可以通过调取委托制造被诉侵权芯片的加工合同、出货巳170公司的实际获利，并向一审法院申请调取上述证据材料。一审法午171公司、丁70公司调取上述材料，未172公司、丁70公司以不能确定被诉产品的型号为由没有向法院提交上述证据。虽然案外人没有配合向法院提交上述证据材料，但作为交易的另一方，丁公司当然掌握该等证据材料，为查清案件事实，申173公司的主张，丁公司酉174公司认可的获利证据提交法庭。亥154公司戌175公司认可的上述证据，也未提交其他相关账册资料，导致本案无法精确计算实际获利金额。在此情况下，一审法院综合考虑庚公司对涉案布图设计的研发投入较大，丁公司在主观上存在侵权过错，本案的侵权性质包括了复制、亥176公司为制止侵权所支出的合理费用等因素，丑122公司戌公司经济损失人民币300万元，符合前述规定，并无不当。本院认为，根据案件的具体情况所裁量的损失或者获利也是侵权损失或者获利，若将侵权损失或者获利仅仅解释为精确计量的损失或者获利，一则限缩了法律规定，二则将由于无法精确计算损失或者获利的具体数额而使权利人无法获得赔偿，既违背了法律基本精神也违反了法律的具体规定。癸142公司关于一审法院通过酌定方式确定赔偿额违反法律规定的上诉理由不能成立，本院不予支持。
综上所述，庚公司虽仅对其主张保护的B、C、D、E、G、H、I、M八个区域享有专有权，丁公司也仅侵害了其中C、D、E、H、I、M六个区域的专有权，但一审法院未106公司构成侵权的定性正确，甲177公司承担停止侵权并赔偿损失的责任亦无不当。但是由于在二审期间，涉案布图设计已过保护期，庚公司在保护期后不再对布图设计享有专有权，乙178公司停止上述侵权行为。故本院根据《集成电路布图设计保护条例》第二条第二项、第四条、第七条、第八条、第十二条、第十六条、第三十条，《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十七条、第二十九条，《中华人民共和国民事诉讼法》第一百七十条第一款第二项的规定，判决如下：
一、撤销广东省深圳市中级人民法院(2012)深中法知民初字第398号民事判决第一项、第三项；
二、维持广东省深圳市中级人民法院(2012)深中法知民初字第398号民事判决第二项；
三、驳回泉芯电子技术(深圳)乙公司的其他诉讼请求。
丙179公司未按本判决指定的期间履行给付金钱义务的，应当依照《中华人民共和国民事诉讼法》第二百五十三条之规定，加倍支付迟延履行期间的债务利息。
本案二审案件受理费30800元(已交纳)，甲公司承担。
本判决为终审判决。
审 判 长 欧丽华
审 判 员 郑 颖
审 判 员 李金娟
二〇二〇年十二月三十一日
法官助理 王 雪
书 记 员 徐 菲
郑斯明
本案法律依据
中华人民共和国民事诉讼法(2017修正) 第170条1款2项
中华人民共和国民事诉讼法(2017修正) 第253条
中华人民共和国民事诉讼法(2017修正) 第64条1款
集成电路布图设计保护条例 第12条
集成电路布图设计保护条例 第16条
集成电路布图设计保护条例 第2条1款2项
集成电路布图设计保护条例 第23条1款3项
集成电路布图设计保护条例 第30条1款1项
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