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华润矽威科技(上海)甲公司乙公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案

裁判文书江苏省南京市中级人民法院案由 其他知识产权
引注:(2009)宁民三初字第435号

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裁判规则 关键词:集成电路布图设计权,商业利用,侵权 核心问题:1.通过反向剖析的手段,丙公司享有设计专有权的集成电路布图并在未经许可的情况下进行商业利用,是否构成侵权? 裁判要点:集成电路布图设计权是一项独立的知识产权,是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。布图设计权的主体是指依法能够取得布图设计专有权的人,通常称为专有权人或权利持有人。《集成电路布图设计保护条例》第三十条规定,除本条例另有规定的外,未经布图设计权利人许可,有下列行为之一的,行为人必须立即停止侵权行为,并承担赔偿责任:(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的;(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。因此,丙公司享有设计专有权的集成电路布图并在未经许可的情况下进行商业利用的行为,显然已构成侵权。 (北大法宝编写) 华润矽威科技(上海)甲公司乙公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案 南京市中级人民法院 (2009)宁民三初字第435号 民事判决书 华润矽威科技(上海)甲公司(以下简称壬公司)享有用于LED照明用的PT4115集成电路布图设计专有权。丁公司(以下简称乙公司)戊公司(以下简称戊公司)订立协议开发1360集成电路。乙公司己公司销售的PT4115芯片进行了反向剖析,形成1360集成电路的布图设计,庚公司,获得10万元设计费。戊公司委托第三方生辛公司,乙公司将管芯封装后,编码成6808、6807等系列集成电路向市场销售并获利。壬公司癸公司侵犯其集成电路布图设计专有权为由,向江苏省南京市中级人民法院提起诉讼。 该院认为,乙公司接受委托制作的布图设计及其销售子公司享有专有权的涉案布图设计相同。因此,乙公司通过反向剖析的手段,复制了涉案PT4115布图设计的全部,庚公司进行商业利用,未经权利人许可,其行为构成对PT4115布图设计专有权的侵害;同时,乙公司为商业目的,销售了含有其非法复制的布图设计的集成电路,亦构成对PT4115布图设计专有权的侵害。丑公司立即停止侵犯PT4115集成电路布图设计专有权的行为、寅公司卯公司为制止侵权行为所支付的合理费用共计23万余元。双方当事人均未上诉。

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