最高法公布2014年十大知识产权案件之五：“ATT7021AU”集成电路布图设计专有权侵权纠纷案

裁判规则 关键词：集成电路布图设计侵权,未经许可,直接复制,独创性 核心问题：1.为研制新的集成电路以进行商业利用直接复制他人集成电路布图设计中具有独创性的布图设计，构成侵权 裁判要点：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，享有布图设计权。根据相关规定，使用他人享有布图设计权的布图设计，除规定的例外情形外，应取得权利人许可，支付报酬。未经许可为了研制新的集成电路以进行商业利用而直接复制他人集成电路布图设计中具有独创性的布图设计，不属于为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的情形，因此，构成侵权。 （北大法宝编写） 最高法公布2014年十大知识产权案件之五：“ATT7021AU”集成电路布图设计专有权侵权纠纷案 钜泉光电科技(上海)甲公司乙公司、丙公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷上诉案〔上海市高级人民法院(2014)沪高民三(知)终字第12号民事判决书〕 【案情摘要】钜泉光电科技(上海)甲公司(丁公司)完成了集成电路布图设计ATT7021AU的设计(简称钜泉布图设计)，并获得布图设计登记证书。戊公司发现，乙公司(己公司)未经其许可复制其布图设计并制造含有该布图设计的集成电路芯片RN8209、RN8209G(简称被诉侵权芯片)，丙公司(庚公司)销售被诉侵权芯片。戊公司诉至法院，请求判令两被告承担侵权责任。辛公司壬公司共同辩称，癸公司自主开发，并获得了登记证书；被诉侵权芯片的布图设计与钜泉布图设计不同；钜泉布图设计不具有独创性，属于常规设计，子公司诉讼请求。上海市第一中级人民法院一审判决戊公司停止侵权、赔偿损失及合理费用合计320万元。戊公司、辛公司均不服，提起上诉。上海市高级人民法院经审理认为：第一，由于集成电路布图设计的创新空间有限，在布图设计侵权判定中对于两个布图设计构成相同或者实质性相似的认定应采用较为严格的标准，然而被诉侵权芯片的相应布图设计仍与钜泉布图设计中的“数字地轨与模拟地轨衔接的布图”和“独立升压器电路布图”构成实质性相似。第二，辛公司在本案中提交的证据材料不足以证明钜泉布图设计中的“数字地轨与模拟地轨衔接的布图”和“独立升压器电路布图”是常规设计。第三，受保护的布图设计中任何具有独创性的部分均受法律保护，而不论其在整个布图设计中的大小或者所起的作用；辛公司对钜泉布图设计进行部分复制，既不是为个人目的，亦不是单纯为评价、分析、研究、教学等目的，而是为了研制新的集成电路以进行商业利用；辛公司认可其接触了钜泉布图设计，而非通过反向工程获得，故无论被诉侵权芯片的布图设计是否具有独创性，辛公司的行为均不适用《集成电路布图设计保护条例》第二十三条第(二)项的规定，已经侵犯了钜泉布图设计专有权。第四，考虑被确认侵权的两部分布图设计在被诉侵权芯片中所起的作用确非核心和主要作用且所占的布图面积确实较小，丑公司寅公司相应布图设计所节约的研发投入和缩短的研发时间，卯公司辰公司包括合理支出在内的经济损失320万元，并无不当。故二审法院判决驳回上诉，维持原判。 【典型意义】本案是一起十分典型的集成电路布图设计侵权纠纷。本案被告主张，集成电路布图设计侵权判断标准应有相似度的概念，一项集成电路布图设计在没有自身独创设计的前提下，完全抄袭他人布图设计或与他人布图设计构成实质性相似的，才构成对他人集成电路布图设计专有权的侵害。二审法院认为，根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，未经权利人许可，复制权利人受保护的布图设计的任何具有独创性的部分，均构成侵权。该侵权判断标准强化了对于集成电路布图设计创新的激励。同时，本案对于侵权判断中“实质性相似”采用严格的认定标准。本案判决意在平衡权利人与竞争者之间的利益，促进集成电路布图设计行业健康发展。 本案法律依据 集成电路布图设计保护条例 第23条1款2项