叶某与国家知识产权局发明专利申请驳回复审行政纠纷上诉案
裁判文书案由 专利
引注:(2021)最高法知行终1062号
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案 号:(2021)最高法知行终1062号
审理法官: 崔某 佘朝阳 柯胥宁
文书类型: 判决书
公开类型: 文书公开
审理法院: 最高人民法院
审结日期:2023.08.07
案件类型: 行政二审
审理程序: 二审
权责关键词: 合法 关联性 合法性 新证据 维持原判
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叶某与国家知识产权局发明专利申请驳回复审行政纠纷上诉案
中华人民共和国最高人民法院
行政判决书
(2021)最高法知行终1062号
上诉人(一审原告、专利申请人):叶某。
委托诉讼代理人:叶某某(系叶某之女)。
委托诉讼代理人:刘某,甲公司专利代理师。
被上诉人(一审被告):国家知识产权局。
法定代表人:申某,该局局长。
委托诉讼代理人:彭某,该局审查员。
委托诉讼代理人:程某,该局审查员。
上诉人叶某与被上诉人国家知识产权局发明专利申请驳回复审行政纠纷一案,涉及专利申请人为叶某、名称为“一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液”的发明专利申请(以下简称本申请)。原国家知识产权局专利复审委员会(以下简称专利复审委员会)作出第168140号复审请求审查决定(以下简称被诉决定),维持国家知识产权局作出的驳回本申请的决定;叶某不服,向北京知识产权法院(以下简称一审法院)提起诉讼,请求撤销被诉决定,判令国家知识产权局重新作出审查决定。一审法院于2021年2月24日作出(2019)京73行初4438号行政判决,判决驳回叶某的诉讼请求;叶某不服,向本院提起上诉。本院于2021年11月15日立案后,依法组成合议庭,并于2022年5月6日询问当事人,上诉人叶某的委托诉讼代理人叶某某、刘某和被上诉人国家知识产权局的委托诉讼代理人彭某、程某2庭参加询问。本案现已审理终结。
本案基本事实如下:本申请系名称为“一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液”的发明专利申请,申请人为叶某,申请号为201510176486.9,申请日为2015年4月13日,优先权日为2014年6月16日。作为本案审查基础的权利要求中权利要求1的内容为:
“1.一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液,包括氯化铜、蚀刻子液,使用自动检测投料控制机对蚀刻过程中的蚀刻液比重进行控制,以使所述的蚀刻液中的铜离子浓度不低于设定的数值;其特征在于:
所述的蚀刻子液中增加了甲酸和/或甲酸铵,其组分按重量百分比的配比如下:
氯化铵10%-30%;
甲酸和/或甲酸铵0.0002%-25%;
氨水0.3-25%;
其余为水,
所述的氯化铜的初始投放量B根据以下公式计算得到:
B=(134.5/63.5)×铜离子浓度设定值A;
所得的蚀刻液生产工艺控制参数设定:铜离子浓度为30-170g/L,pH为7.0-8.8。”
国家知识产权局原审查部门引用了如下证据:
对比文件1:公开号为CN102985596A、公开日为2013年3月20日的中国专利申请文件。对比文件1公开了一种用于包含铜层和钼层的多层结构膜的蚀刻液,并具体公开了以下内容(参见其说明书第[0023]-[0060]段):蚀刻液中配混有:(A)分子内具有两个以上羧基、且具有一个以上羟基的有机酸离子供给源,(B)铜离子供给源,以及(C)氨和/或铵离子供给源,水,且所述蚀刻液的pH为5-8。(A)可抑制在将蚀刻后的基板进行水淋洗时基板上的残渣物和析出物的产生,优选苹果酸、酒石酸、柠檬酸、柠檬酸铵、苹果酸铵等。(B)除了铜以外,还可优选列举出硫酸铜、硝酸铜、醋酸铜、氯化铜(II)、溴化铜(II)、氟化铜(II)、以及碘化铜(II)等铜盐。(C)可使用氨或者铵盐,作为铵盐,可选硫酸铵、硝酸铵、碳酸铵、氯化铵、醋酸铵等。(A)相对于(B)的配混比(摩尔比)优选为0.2-3.0倍,更优选为0.4-1.5倍。(B)的配混量优选为0.2-1摩尔/kg-蚀刻液,更优选为0.3-0.8摩尔/kg-蚀刻液。(C)的配混量优选为0.5-10摩尔/kg-蚀刻液,更优选为1-5摩尔/kg-蚀刻液,更优选为1.5-4摩尔/kg-蚀刻液。由于该蚀刻液能够对具有包含铜层和钼层的多层薄膜的布线一次性地进行蚀刻,因此能够以高生产率获得。进而,由于该蚀刻液在pH5-8的中性范围,因此氨的挥发得以抑制,蚀刻液的稳定性优异、容易操作。该有机酸离子的配混量以相对于(B)铜离子供给源的配混比(摩尔比)计,优选为0.2-3.0倍、更优选为0.4-1.5倍。若蚀刻液中的有机酸离子的含量在上述范围内,则可有效地抑制基板上的残渣物和析出物的产生,蚀刻速率也良好。
2017年7月7日,国家知识产权局经其原审查部门审查,决定驳回本申请。主要理由包括:权利要求1-11不具备2008年修正的《中华人民共和国专利法》(以下简称专利法)第二十二条第三款规定的创造性。
叶某对上述驳回决定不服,于2017年10月20日向专利复审委员会提出复审请求,并提交权利要求书的全文修改替换页,将权利要求书中的“羧酸”和“羧酸铵”分别修改为“甲酸”和“甲酸铵”,同时删除权利要求5。
针对叶某提出的复审请求,专利复审委员会引用了对比文件1和如下公知常识性证据:《印制电路技术》,金某、陈某,化学工业出版社,2003年12月第1版,第144-145页。
2018年12月19日,专利复审委员会作出被诉决定认为:在对比文件1的基础上结合本领域的常规技术手段得到权利要求1的技术方案对本领域技术人员而言是显而易见的,权利要求1不具备创造性,驳回决定应予维持。其中,被诉决定在回应叶某答复复审通知书的意见部分中指出,无论是一层或多层的半导体,还是多层的薄膜晶体管,在对铜层进行蚀刻的问题上,应用领域的不同并不影响蚀刻液对于铜的蚀刻。即,对比文件1的蚀刻液不仅可以用于其自身所述的高精密的薄膜晶体管,还可以用于普通的印刷线路板和多层高精密线路板等。据此,专利复审委员会决定:维持国家知识产权局于2017年7月7日对本申请作出的驳回决定。
叶某不服,于2019年4月19日向一审法院提起诉讼,请求撤销被诉决定,判令国家知识产权局重新作出审查决定。事实和理由为:(一)被诉决定对本申请权利要求1是否具备创造性的认定有误。1.本申请蚀刻液组分甲酸和/或甲酸铵属于对比文件1所摒弃的技术方案范畴,对比文件1给出了相反技术教导。根据对比文件1公开内容,其蚀刻液中的(A)成分所要求的羧酸和羧酸铵必须是具有两个以上羧基,且具有一个以上羟基的有机酸离子供给源分子。而本申请的甲酸和/或甲酸铵只有一个羧基,不在对比文件1公开的技术方案范围内。且本申请的甲酸和/或甲酸铵与对比文件1中的比较例3中所用的醋酸结构类似,进一步佐证前述主张。2.对比文件1所用的羧酸和羧酸铵与本申请所用的甲酸和/或甲酸铵目的和作用不同。对比文件1在蚀刻液中添加的有机酸或有机酸铵,其利用的并非是羧酸根离子的活性,而是专门选择羟基羧酸作为螯合剂对容易与其他物质发生反应产生残渣的铜离子起螯合作用。而且对比文件1对有机酸和/或有机酸铵的选择均为羟基羧酸,而羟基羧酸正是传统使用的金属螯合剂。3.本申请具有预料不到的技术效果,被诉决定的相关认定有误。根据对比文件1说明书的记载,是无法预期到本申请的技术效果的。且对比文件1与本申请分属不同的技术领域,蚀刻速率的单位亦不同,二者不具有可比性。本领域技术人员无法从对比文件1直接推导出本申请实施例28、29所述的技术效果。(二)基于权利要求1具备创造性,其他从属权利要求亦具备创造性。
国家知识产权局一审辩称:(一)虽然甲酸和对比文件1公开的具有两个羧基和一个羟基的羧酸不同,但二者都属于有机羧酸,在蚀刻液中都是利用了羧酸中的羧酸根离子的活性。对比文件1没有公开使用甲酸的技术方案,并不能据此认定甲酸是对比文件1所摒弃的方案。事实上,对比文件1公开的有机酸和本申请说明书中记载的有机羧酸是相同的。对比文件1中的有机酸可以抑制基板上的残渣物和析出物的产生。本申请中蚀刻液的整体蚀刻能力的提高,同样是通过甲酸抑制基板上的残渣物和析出物产生而带来的。因此,二者只是文字表述不同,实质上在整体的组合物中都为了提供稳定性优异、速率可控的蚀刻液。(二)本申请中第28、29实施例使用的有机羧酸为柠檬酸、苹果酸,与使用甲酸的技术方案进行比较,具有相近似的技术效果。由此可见,从有机羧酸中选用甲酸只是本领域技术人员的常规选择,并没有使其技术方案取得任何预料不到的技术效果,不能使技术方案具备创造性。上述对比是为了说明本申请使用甲酸和/或甲酸铵的技术方案取得的技术效果,并不存在分析评述的逻辑错误。综上,被诉决定认定事实清楚,适用法律正确,审查程序合法,叶某的诉讼理由不能成立,请求驳回叶某的诉讼请求。
一审法院经审理认定了上述事实。
一审法院认为:被诉决定认定本申请权利要求1与对比文件1的区别在于:(1)权利要求1限定了蚀刻子液的组成和重量百分比,而对比文件1公开了蚀刻液的组成和摩尔含量;并且,二者羧酸及羧酸铵的种类不同;(2)权利要求1限定了使用自动检测投料控制机对蚀刻过程的蚀刻液比重进行控制,以使蚀刻液中的铜离子浓度不低于设定的30-170g/L;(3)权利要求1限定了氯化铜的初始投放量及其公式。由上述区别可以确定,本申请实际解决的技术问题在于:碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻子液的确定。叶某对前述区别特征、实际解决的技术问题及被诉决定对区别特征(2)(3)的评述未提出异议理由,对此予以确认。
本案争议点在于被诉决定对区别特征(1)的评述,叶某的主要理由为:本申请权利要求1的技术方案是对比文件1所摒弃的技术方案,其给予的是反向教导;本申请中甲酸和对比文件1中的羧酸的目的和作用是不同的;本申请取得了预料不到的技术效果,具有突出的实质性特点和显著进步。
对此,根据本申请说明书的记载,本申请的发明点在于,在蚀刻子液中添加了一种或多种的羧酸和/或多种的羧酸铵。其中,羧酸和/或羧酸铵电离出的羧基根阴离子为实质上的活性成分。优选地,所述的羧酸为选自甲酸、柠檬酸或苹果酸中的一种或多种,所述的羧酸铵为选自甲酸铵、柠檬酸铵或苹果酸铵中的一种或多种。虽然本申请权利要求1经过修改,将羧酸和/或羧酸铵限定为甲酸和/或甲酸铵,但其仍然利用的是在蚀刻液中电离出的羧基根阴离子的活性。而根据对比文件1公开的内容,有机酸离子供给源可抑制基板上起因于蚀刻液的氢氧化铜的残渣物和析出物的产生,可见,其亦是利用所电离出的羧酸根离子-COOH的活性。虽然对比文件1限定了有机酸离子供给源的结构,且在比较例中使用了与本申请甲酸结构更为近似的有机酸物质,但对比文件1已经给出了在蚀刻液中添加有机酸离子,利用其所电离出的羧酸根离子的活性抑制残渣和析出物并提高蚀刻效率的技术启示。由于甲酸或甲酸铵也具有羧基,具有羧酸的共性,在对比文件1公开的内容基础上,本领域技术人员容易想到使用甲酸或甲酸铵。而且,本申请权利要求1限定采用甲酸和/或甲酸铵的技术方案是本申请说明书中记载的数个优选技术方案中之一,其说明书中亦未记载甲酸和/或甲酸铵相对于其他羧酸和/或羧酸铵具有更好地且预料不到的技术效果。因此,在本申请限定的技术方案是利用有机酸或有机酸铵所电离出羧酸根离子活性的基础上,其技术效果也是可以预期的,未取得预料不到的技术效果。
至于叶某认为对比文件1在蚀刻液中添加有机酸离子供给源,利用的是其作为螯合剂的作用,即其与铜离子起螯合作用,但在对比文件1说明书中并未对此作任何记载,故对于叶某的该主张不予支持。
此外,对比文件1与本申请在蚀刻液中添加羧酸和/或羧酸铵的作用和目的是相同的,即二者在解决相同技术问题时,所采用的技术手段是一致的。故叶某关于对比文件1系相反教导的主张亦不能成立,对此不予支持。
一审法院依据专利法第二十二条第三款和《中华人民共和国行政诉讼法》第六十九条之规定,判决:“驳回原告叶某的诉讼请求。”案件受理费100元,由叶某负担。
叶某不服一审判决,向本院提起上诉,请求:1.撤销一审判决;2.撤销被诉决定。事实和理由为:一审判决存在多处认定事实和适用法律的错误。(一)被诉决定错误认定区别特征。本申请权利要求1与对比文件1之间有五个区别特征,包括本申请与对比文件1技术领域不同;本申请包括甲酸和甲酸铵,都只有一个羧基和羟基;采用自动检测投料控制机对蚀刻过程中的蚀刻液比重进行控制;以及被诉决定认定的区别特征(2)(3)。(二)被诉决定与一审判决错误认定本申请实际解决的技术问题。本申请与对比文件1的前述区别特征带来的不同技术效果就是蚀刻液具有高蚀刻速率、高蚀刻质量且安全的综合的有益技术效果。特别是本申请使用的是对比文件1限定的有机酸供给源以外的甲酸或甲酸铵,其不仅可以在蚀刻液中起到临时贮存铵的作用,还可以形成更多主要成分为氢氧化铜和碱式氯化铜的护岸剂(析出物),以减少侧蚀。本申请的目的及实现的有益技术效果并不像对比文件1需要抑制氢氧化铜残渣物,本申请“产生更多的护岸剂”与对比文件1“不产生蚀刻残渣和析出物”的技术效果恰好是相反的。并且,本申请与对比文件1所属领域不同,其蚀刻速率要求是不同的,本申请所要求的蚀刻速率远高于对比文件1的蚀刻速率,不在一个数量级上。故本申请实际解决的技术问题是:提供一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液,其不但能保持与现有技术相同或更高的蚀刻速率,而且还能在线路板蚀刻过程中利用适量的固体护岸剂来提高蚀刻质量。(三)被诉决定与一审判决错误认定技术启示。首先,对比文件1并没有“利用所电离出的羧酸根离子-COOH的活性”这样的文字描述。其次,对比文件1实施例与比较例使用的成分(A)均含有羧基,但“残渣的评价”实验结果却截然不同。上述差异与被诉决定中“其亦是利用所电离出的羧酸根离子-COOH的活性”的结论相矛盾。一审判决对此作出矛盾认定且未作出合理解释。因此,对比文件1的技术方案中成分(A)的作用并不是利用其羧酸根离子-COOH的活性,而是“分子内具有两个以上羧基、且具有一个以上羟基”这一特定分子结构化合物的螯合作用,通过螯合作用才可对上述实施例和比较例的结果差异进行合理的解释。基于此,对比文件1没有给出利用羧酸根离子的活性抑制残渣和析出物并提高蚀刻效率的技术启示。(四)一审判决仅以“螯合剂”的原理未在对比文件1的说明书中明确记载为由,对叶某关于对比文件1中有机酸离子与铜离子起螯合作用的主张予以否认,属于认定事实和适用法律错误。专利法并未要求专利申请文件中对发明原理进行明确说明和记载。对比文件1的原理虽然没有被明确记载,但叶某提出的“鳌合作用”的观点能够很好地解释对比文件1中实施例与比较例的实验结果差异,且上述观点是本领域技术人员凭借专业知识推导出的结论。综上,一审判决认为“对比文件1与本申请在蚀刻液中添加羧酸和/或羧酸铵的作用和目的是相同的,即二者在解决相同技术问题时,所采用的技术手段是一致的”,属于认定事实和适用法律错误。
国家知识产权局辩称:(一)发明实际解决的技术问题是根据区别特征所能达到的技术效果而确定的,说明书声称的发明要解决的技术问题是基于背景技术所存在的技术缺陷而提出的,二者不能等同。1.本申请说明书是基于现有技术中使用碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻工艺所存在的蚀刻速率低、析出铜泥沉淀的技术问题,而提供一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液。对比文件1是解决氨碱性蚀刻液所存在的氨的挥发、蚀刻速率变动以及蚀刻后进行水冲洗时发生残渣的技术问题。二者所针对的背景技术都是氨碱性氯化铜蚀刻液所存在的蚀刻速率不稳定、氨挥发、pH变动引起铜沉淀的技术问题,二者所解决的技术问题相同,故对比文件1解决了本申请所提出的“高质高效且安全的氯化铜蚀刻液”的技术问题。2.关于甲酸和甲酸铵的选用。首先,从本申请的修改过程来看,叶某在复审阶段将原权利要求中的“羧酸和/或羧酸铵”修改为“甲酸和/或甲酸铵”,但说明书记载本申请的发明点为羧酸和/或羧酸铵电离出的羧基根阴离子为实质上的活性成分。表明甲酸属于有机羧酸中的一个技术方案,利用了有机羧酸的共性,其和具有两个羧基、一个羟基的其他有机羧酸都可以解决本申请的技术问题。其次,从对比文件1公开的内容来看,对比文件1记载了有机酸离子抑制残渣物和析出物产生的作用,经过简单实验即可想到使用甲酸或甲酸铵。再次,对比文件1比较例3使用醋酸出现了残渣和析出物,但除羧酸种类其还包含其他实验条件,并不能据此认为甲酸或甲酸铵必然被对比文件1所摒弃。最后,甲酸或甲酸铵的技术方案并不是本申请的优选技术方案,其并不具有更优或预料不到的技术效果。由本申请实验结果可知,使用甲酸或甲酸铵的蚀刻速率、蚀刻因子和环保三方面的技术效果都不优于使用其他有机羧酸的结果。故,一审判决对技术问题的确定是客观的,区别特征(1)对于本领域技术人员而言是容易想到的。(二)由对比文件1说明书第[0037]段记载内容可知,对比文件1实际公开了含有两个羧基和一个羟基的有机酸提供活性的RCOO-离子。对比文件1中的有机羧酸在蚀刻液中的作用和本申请相同。(三)对比文件1并未记载有机酸的鳌合作用。对比文件1中的马来酸、乳酸也是螯合剂,因此,叶某认为通过螯合作用才可对实施例和比较例的结果差异进行合理解释的理由并不成立。即使认为有机羧酸是螯合剂,也不能认为在对比文件1的蚀刻液体系中其同样起鳌合作用。即使鳌合作用的理论成立,在没有相反教导时,本领域技术人员容易由其他有机羧酸想到尝试使用甲酸或甲酸铵。综上,一审判决认定事实清楚,适用法律法规正确,审理程序合法,请求驳回上诉,维持原判。
本案二审期间,当事人均未提交新证据,并均对一审判决对于证据真实性、合法性和关联性的认定不持异议。
本院经审理查明:一审法院认定的事实属实,本院予以确认。
本院另查明:
本申请说明书第[0079]段记载:本发明人研究发现,在加入羧酸和/或羧酸铵后,在蚀刻液中铵离子总量相等的情况下,与现有技术的蚀刻液相比,本发明的蚀刻液中含有更多主成分为氢氧化铜和碱式氯化铜的护岸剂。这可能是因为,本发明的蚀刻液中的部分铵离子是以羧酸铵形式存在的,而现有技术的蚀刻液中的铵离子完全是以氨水的形式存在的。羧酸铵中的铵离子在参与络合反应前需经过较缓慢的电离释放的过程。由于羧酸铵电离释放铵离子并与铜离子络合的速度低于氨水中的铵离子直接参与络合反应的速度,本发明的蚀刻液中的铜泥护岸剂将不会过快地通过铜氨络合反应溶于蚀刻液中。因此,本发明的蚀刻液中存有更多的铜泥沉淀护岸剂。铜泥沉淀护岸剂可改善侧蚀、提高蚀刻品质。
本申请说明书中的比较例为未采用羧酸或者羧酸铵配置的蚀刻液,实施例6、28、29分别采用甲酸、柠檬酸、苹果酸配置蚀刻液,表2示出该三种蚀刻液的蚀刻因子K分别为8.5、8.4、8.5,蚀刻速率分别为53.0、50.5、48.3μm/min。
对比文件1说明书第[0007]段还公开了如下内容:作为不含过氧化氢的蚀刻液,已知含有铜(II)离子和氨的氨碱性的蚀刻液(例如参照专利文献5、非专利文献1和2)。这种氨碱性的蚀刻液也能够蚀刻铜/钼系等包含铜、以铜为主要成分的铜合金的多层薄膜,但该蚀刻液由于pH高,氨从该蚀刻液中大量挥发,存在因氨浓度的降低而引起蚀刻速率的变动、使工作环境显著恶化的情况。另外,pH高时也会产生抗蚀剂溶解的问题。这种情况下,通过使pH为中性范围可抑制氨从蚀刻液中挥发,但这种蚀刻液会在蚀刻后进行水冲洗时发生残渣析出的问题。
对比文件1对使用其规定的(A)有机酸离子供给源的实施例及使用其他有机酸离子供给源(包括醋酸)的比较例进行了对比,结论是实施例蚀刻后完全未确认到起因于蚀刻液的氢氧化铜残渣,而比较例显著产生残渣。
叶某在一审程序中提交了介绍鳌合理论的公知常识性证据。
本院认为:本案系发明专利申请驳回复审行政纠纷。本申请的优先权日在2008年修正的专利法施行日(2009年10月1日)之后、2020年修正的专利法施行日(2021年6月1日)之前,本案应适用2008年修正的专利法。本案二审争议焦点问题是:本申请权利要求1是否具备创造性。
专利法第二十二条第三款规定:“创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型具有实质性特点和进步。”判断发明是否具有突出的实质性特点,一般应当确定最接近的现有技术,分析要求保护的发明与最接近的现有技术相比有哪些区别特征,根据该区别特征所能达到的技术效果确定发明创造实际解决的技术问题,继而判断要求保护的发明对本领域技术人员来说是否显而易见,即现有技术是否给出将区别特征应用到最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示。判断发明是否具有显著的进步,主要应当考虑发明是否相对于现有技术具有有益的技术效果。
(一)关于本申请权利要求1与对比文件1之间的区别特征
叶某主张本申请权利要求1主题名称为“一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液”,而由对比文件1说明书可知,其用于液晶显示器布线而非印刷线路板,故二者技术领域存在区别。对此,应当注意的是,叶某主张的上述区别,是基于权利要求主题名称中记载的内容。参照《专利审查指南》第二部分第二章第3.1.1节的相关规定,在判断新颖性、创造性时,对于产品权利要求的主题名称中记载的用途,应考虑其对要求保护的产品本身带来何种影响,如果只是对产品的用途或使用方式的描述,则其对产品是否具有新颖性、创造性的判断不起作用。被诉决定在回应叶某的意见陈述部分指出,在对铜层进行蚀刻的问题上,应用领域的不同并不影响蚀刻液对于铜的蚀刻,即被诉决定已对叶某主张的二者应用领域的区别予以审查。对比文件1与本申请均用于铜的蚀刻,本申请权利要求1只是在主题名称中进一步描述了蚀刻液应用的具体对象为“印刷电路板”,其对权利要求1要求保护的产品的影响,以及权利要求1的技术方案与对比文件1的区别,仍需体现在主题名称之外的具体技术特征的限定中。叶某上诉主张本申请与对比文件1对蚀刻速率的要求不同,但对此可以通过具体的技术方案及其达到的技术效果进行比较。因此,是否将主题名称中记载的“印刷电路板”认定为区别特征对创造性的评述并无实质影响。叶某上诉主张的其他区别特征均在被诉决定认定的区别特征范围之内,故本院对被诉决定认定的区别特征予以确认。
(二)关于本申请权利要求1实际解决的技术问题
在准确认定发明创造与最接近的现有技术之间的区别特征后,需要基于该区别特征确定发明创造实际解决的技术问题。对于发明实际解决的技术问题,如果本领域技术人员能够确定发明创造基于上述区别特征可以解决说明书中载明的技术问题时,应当认定该载明的技术问题即是发明实际解决的技术问题。但如果本领域技术人员不能确定上述区别特征能够产生说明书提及的技术效果,则应当依据上述区别特征客观产生的技术效果重新确定实际解决的技术问题。
本案中,叶某主张,本申请实际解决的技术问题是:提供一种高质高效且安全的印刷线路板碱性氯化铜蚀刻液,其不但能保持与现有技术相同或更高的蚀刻速率,而且还能在线路板蚀刻过程中利用适量的固体护岸剂来提高蚀刻质量。产生上述技术效果的原因在于本申请与对比文件1所采用的有机酸不同,本申请所采用的甲酸或甲酸铵不仅能够起到临时贮存铵的作用,而且能够形成护岸剂,从而减少侧蚀,而对比文件1优选实施方案不产生护岸剂。对此分析如下:
首先,本申请说明书记载的技术效果是基于采用羧酸和/或羧酸铵的实施例与未采用羧酸和/或羧酸铵的比较例之间的蚀刻速率、蚀刻因子等参数的比较而得出的,并未明确采用甲酸和/或甲酸铵与采用其他羧酸和/或羧酸铵的技术效果的优劣。而事实上,根据说明书记载的技术方案和表格中示出的结果,采用甲酸的实施例6与蚀刻液配置基本一致且采用柠檬酸或苹果酸的实施例28、29相比,表征侧蚀和蚀刻质量的蚀刻因子基本相同,蚀刻速率也无明显增加,而柠檬酸、苹果酸均为对比文件1中优选的有机酸来源。换言之,本领域技术人员根据说明书记载的内容并不能确认本申请采用甲酸和/或甲酸铵作为有机酸来源与对比文件1相比能够取得叶某所称的更优的技术效果。
其次,叶某主张本申请采用甲酸或甲酸铵产生护岸剂和临时贮存铵的作用,系对其主张的高蚀刻速率和蚀刻质量的技术效果的原因分析,并非技术效果本身,且该原因分析亦不能成立。其中,关于产生护岸剂,由本申请说明书可知,叶某对可能影响护岸剂产生的原因进行了分析推测,但并未对蚀刻液中护岸剂的含量进行测量,本领域技术人员通过本申请说明书中记载的该分析推测无法得出基于有机酸的选择必然产生不同含量铜泥沉淀护岸剂的结论。关于临时贮存铵,其仅在于蚀刻液中羧酸与羧酸铵发生可逆反应,而发生该可逆反应是因为碱性蚀刻液中有机酸的供给,并非依赖于特定的甲酸和/或甲酸铵的供给。对比文件1已经公开了在碱性蚀刻液中加入有机酸,由于羧酸根离子客观存在,其必然能够发生该可逆反应,对比文件1是否公开该机理,并不影响有机酸供给所必然产生的技术效果。
由此可见,叶某主张的技术效果并非本申请权利要求1与对比文件1之间的区别特征所能达到的技术效果,故不应认定为本申请权利要求1实际解决的技术问题。被诉决定认定本申请权利要求1实际解决的技术问题是碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻子液的确定,并无不当。
(三)关于现有技术是否给出技术启示
叶某主张,对比文件1公开的蚀刻液用于多层结构薄膜,本申请用于印刷线路板,对比文件1所要解决的技术问题是减少析出物,本申请则需要产生适量护岸剂,二者应用领域不同、机理不同,故对比文件1没有给出技术启示。
对此,首先,如上所述,叶某主张的应用领域不同只是基于本申请权利要求主题名称中对蚀刻液应用的具体对象的描述,对创造性判断无实质影响。通过上述比对亦可知,采用本申请权利要求1限定的具体技术方案的产品与采用对比文件1优选有机酸来源得到的产品可能存在蚀刻速率相近的情形,进一步说明叶某主张本申请与对比文件1限定了不同的应用领域,故而对蚀刻速率要求不同的理由不能成立。
其次,对比文件所要解决的技术问题与本申请是否完全一致,并不影响本领域技术人员以对比文件为基础进行改进。本案中,本申请通过在蚀刻子液中加入有机酸,对蚀刻液的pH值进行精确控制,提高蚀刻速率和质量。对比文件1公开了与本申请类似的技术方案,其所要解决的技术问题不仅在于减少析出物,由其说明书第[0007][0033]段可知,其也同样关注到有机酸的加入能够达到控制蚀刻液的pH值,进而得到效率高、稳定性高、挥发少的碱性蚀刻液的技术效果。因此,尽管对比文件1明确了作为供给源的有机酸离子的结构,且在比较例中使用了与本申请甲酸结构更为近似的有机酸物质,但其实施例和比较例只是对是否产生析出物这一特定指标进行分析。从蚀刻质量和速率的平衡出发,本领域技术人员仍有动机在对比文件1的基础上采用其他有机酸源进行蚀刻液的配置,而选择甲酸和/或甲酸铵是本领域的常规选择。
再次,关于叶某主张对比文件1系采用鳌合机理,与本申请作用机理不同的意见。发明的创造性应基于技术方案而非其机理来判断,只有体现在技术方案所采用的技术手段及其所产生的技术效果中的改进,才能被认为具备专利法意义上的创造性。本申请与对比文件1采用不同种类的有机酸并未导致蚀刻因子、蚀刻速率明显不同。况且,对比文件1并未公开其是利用羧酸根离子、铵离子、铜离子的鳌合作用消除析出物,鳌合理论系叶某的推测。叶某一审虽提交了关于鳌合理论的公知常识性证据,但也仅是对鳌合理论的介绍,并未直接证明对比文件1的机理。故,叶某关于本申请与对比文件1机理不同并由此具备创造性的相关主张,缺乏依据,本院不予支持。
综上,现有技术给出了区别特征(1)的技术启示。叶某对被诉决定关于区别特征(2)(3)的评述并无异议,经审查,被诉决定对此认定并无不当,本院予以确认。因此,本申请相对于对比文件1和本领域的公知常识不具备创造性,被诉决定与一审判决对此认定正确,本院予以确认。
综上所述,叶某的上诉请求不能成立,应予驳回。一审判决认定事实清楚,适用法律正确,裁判结果正确,应予维持。根据《中华人民共和国行政诉讼法》第八十九条第一款第一项之规定,判决如下:
驳回上诉,维持原判。
二审案件受理费100元,由叶某负担。
本判决为终审判决。
审 判 长 崔某
审 判 员 佘朝阳
审 判 员 柯胥宁
二〇二三年八月七日
法官助理 杨莹
书 记 员 谭秀娇
本案法律依据
中华人民共和国专利法(2008修正) 第22条3款
中华人民共和国行政诉讼法(2017修正) 第69条
中华人民共和国行政诉讼法(2017修正) 第89条1款1项
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